《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁 > 微波|射頻 > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 南韓加速研發(fā)新興存儲(chǔ)器與材料,穩(wěn)固龍頭地位

南韓加速研發(fā)新興存儲(chǔ)器與材料,穩(wěn)固龍頭地位

2014-12-28
關(guān)鍵詞: 韓國 三星電子 存儲(chǔ)器

    南韓為穩(wěn)固全球記憶體龍頭地位,在產(chǎn)業(yè)通商資源部(Ministry of Trade, Industry and Energy;MOTIE)主導(dǎo)下,不僅采取以電子(Samsung Electronics)等大企業(yè)為投資要角的產(chǎn)官學(xué)新合作研發(fā)模式,亦將次世代非揮發(fā)性記憶體與新興材料、技術(shù)列為研發(fā)重點(diǎn)。

  2013~2017年南韓將引進(jìn)由政府與企業(yè)共同提供資金給學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)研發(fā)的新合作模式,研發(fā)成果的智財(cái)權(quán)將由學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)擁有,此將有利提高往后提供南韓中小型企業(yè)運(yùn)用的可能性。

  觀察2013~2017年南韓列為研發(fā)重點(diǎn)的5項(xiàng)記憶體相關(guān)技術(shù),包括相變化記憶體(Phase-change Random Access Memory;)等新興非揮發(fā)性記憶體,及有助提升記憶體運(yùn)算效能的銅/石墨烯積層構(gòu)造技術(shù)、三五族通道材料、穿隧式場效電晶體(Tunnel Field Effect Transistor;TFET)、光學(xué)內(nèi)部連結(jié)等技術(shù)。

  透過研發(fā)新興記憶體相關(guān)材料與技術(shù),南韓計(jì)劃開發(fā)高附加價(jià)值型記憶體核心技術(shù),除朝穿戴式裝置擴(kuò)大應(yīng)用范圍外,更將提升容量與增添功能,并降低功耗以符合行動(dòng)應(yīng)用低功耗需求。

  為平衡與南韓封測、公司等中小型企業(yè)間的差距,在南韓政府主導(dǎo)下,如等大企業(yè)于半導(dǎo)體領(lǐng)域有閑置廠房、設(shè)備或智財(cái)權(quán),將可移轉(zhuǎn)給南韓中小企業(yè)使用,此將有利促成南韓大型企業(yè)與中小型企業(yè)共同成長。

  由于南韓自2012年起已推動(dòng)將奈米碳管等技術(shù)應(yīng)用于后(Post)互補(bǔ)式金屬氧化物半導(dǎo)體(Complementary Metal Oxide Semiconductor;CMOS)型次世代半導(dǎo)體的奈米相關(guān)計(jì)畫,為避免資源浪費(fèi),南韓已著手協(xié)調(diào)奈米相關(guān)計(jì)畫與半導(dǎo)體計(jì)畫的負(fù)責(zé)單位協(xié)議組成新團(tuán) 體,以促使成果相互連結(jié)。

  DIGITIMES Research觀察,南韓為穩(wěn)固全球記憶體龍頭地位,不僅將重點(diǎn)放在研發(fā)新技術(shù)上,亦將透過研發(fā)成果及大企業(yè)閑置資產(chǎn)可由南韓中小型企業(yè)運(yùn)用的方式,促成大型與中小型企業(yè)平衡發(fā)展,以避免資源過度集中的情形。

  南韓次世代記憶體材料研發(fā)計(jì)畫預(yù)計(jì)投入金額及重點(diǎn)項(xiàng)目

  

本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn)。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題,請及時(shí)通過電子郵件或電話通知我們,以便迅速采取適當(dāng)措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。聯(lián)系電話:010-82306118;郵箱:aet@chinaaet.com。