《電子技術應用》
您所在的位置:首頁 > 其他 > 業(yè)界動態(tài) > 諾發(fā)公司(NOVELLUS)鞏固其在光刻膠去除領域的市場領先地位

諾發(fā)公司(NOVELLUS)鞏固其在光刻膠去除領域的市場領先地位

2007-08-13
作者:GAMMA Express可延伸

??? 諾發(fā)" title="諾發(fā)">諾發(fā)系統(tǒng)有限公司(Novellus Systems, Inc., Nasdaq股票代碼:NVLS)日前宣布其在2006年美國西部半導體設備展覽會(SEMICON West)上推出的GAMMA? Express?系統(tǒng)正在成為該公司歷史上市場認可速度最快的產品之一。自 2007 年初以來,公司已接到針對多款GAMMA Express系統(tǒng)的續(xù)訂訂單,這些系統(tǒng)在亞洲已被領先的半導體制造商應用于高級研發(fā)與生產過程中。GAMMA平臺采用多站式順序處理(MSSP)技術,可用于領先存儲器、邏輯器件以及全球代工廠設備的生產制造,目前每個月可處理逾一百萬片晶圓。諾發(fā)公司已為客戶安裝了250多套系統(tǒng),在針對高產能制造的300mm" title="300mm">300mm光刻膠" title="光刻膠">光刻膠去除領域中占據市場領先地位。?

  隨著半導體行業(yè)向高級技術節(jié)點過渡,光刻膠去除已成為日益重要的工藝步驟。在高劑量離子注入光刻膠去除(HDIS)的過程中,保持較低的硅氧損失量對提高晶體管性能至關重要。GAMMA Express平臺不僅適用于前道(FEOL)和后道(BEOL)應用,同時還為大容量、高劑量離子注入光刻膠去除提供了最高水平的技術、可靠性和生產力。因而,該平臺的擁有成本較低,實現了對制造可變性的緊密控制,正常工作時間超過95%。?

  “隨著客戶日益認識到針對高級工藝節(jié)點的高效率光刻膠去除技術的優(yōu)勢,GAMMA Express正受到廣泛的市場關注?!敝Z發(fā)公司副總裁兼表面整合技術部總經理Kevin Jennings先生表示,“在諾發(fā)公司全球服務基礎設施的全面支持下,GAMMA平臺憑借其高可靠性、高生產力以及技術上可達32nm" title="32nm">32nm的高度可延伸性,不斷贏得客戶青睞?!?

諾發(fā)公司簡介:

??? 諾發(fā)系統(tǒng)有限公司(Novellus Systems, Inc., Nasdaq股票代碼:NVLS)是全球領先的半導體工藝" title="半導體工藝">半導體工藝設備供應商。通過創(chuàng)新性新技術的開發(fā)和值得信賴的高生產效率的支持,該公司的產品能夠為客戶提供最大的價值。諾發(fā)是一家標準普爾500指數公司,總部位于加州圣何塞,分支機構跨越全球各個國家和地區(qū)。有關諾發(fā)公司的更多信息,請訪問網站www.novellus.com。?

本站內容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,轉載內容只為傳遞更多信息,并不代表本網站贊同其觀點。轉載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權歸版權所有權人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內容無法一一聯系確認版權者。如涉及作品內容、版權和其它問題,請及時通過電子郵件或電話通知我們,以便迅速采取適當措施,避免給雙方造成不必要的經濟損失。聯系電話:010-82306118;郵箱:aet@chinaaet.com。