《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁 > 嵌入式技術(shù) > 業(yè)界動態(tài) > Mentor Graphics 優(yōu)化工具和流程

Mentor Graphics 優(yōu)化工具和流程

助設(shè)計師成功應(yīng)對 三星代工廠10 納米 FinFET 工藝
2016-03-11
關(guān)鍵詞: 三星電子 SOC DFM AFS平臺

  俄勒岡州威爾遜維爾,2016 年 3 月 11 日—Mentor Graphics公司(納斯達(dá)克代碼:MENT)今日宣布,與三星電子合作,為三星代工廠的10 納米 FinFET 工藝提供各種設(shè)計、驗證、測試工具及流程的優(yōu)化。其中包括 Calibre? 物理驗證套件、Mentor? Analog FastSPICE? (AFS?) 平臺、Olympus-SoC? 數(shù)字設(shè)計平臺和 Tessent?測試產(chǎn)品套件。這些工具經(jīng)過優(yōu)化和認(rèn)證,使系統(tǒng)芯片 (SoC) 設(shè)計工程師快速適應(yīng)三星代工廠先進(jìn)的 10 納米工藝,并且對第一次試產(chǎn)就能成功有極大信心。

  設(shè)計風(fēng)格和制造工藝之間的相互作用在 10 納米會變得更為重要,因此可制造性設(shè)計 (DFM) 工具在驗證流程中發(fā)揮關(guān)鍵作用。三星代工廠已對 Calibre YieldEnhancer 產(chǎn)品,特別是其 SmartFill 和 ECO/Timing-Aware Fill 功能進(jìn)行認(rèn)證,幫助設(shè)計工程師在多次更改設(shè)計的情況下,仍能滿足制造工藝平坦化要求,趕上交付制造期限。為了幫助設(shè)計工程師發(fā)現(xiàn)和解決潛在的微影相關(guān)問題,三星支持 Calibre LFD? 工具的使用,該工具是基于 Mentor 的工藝process-window modeling、光罩合成、光學(xué)鄰近效應(yīng)修正 (OPC) 和分辨率增強 (RET) 的量產(chǎn)制造方案。

  由于設(shè)計團(tuán)隊可同時處理多個 DFM 元素,他們可使用建在 Calibre Yield Analyzer 工具上的三星 DFM 評分和分析解決方案以簡化決策權(quán)衡流程。最后為把制造結(jié)果快速反饋到客戶設(shè)計流程中,三星支持使用 Calibre Pattern Matching 作為識別造成低良率的圖形并予以修正的解決方案。

  在物理驗證方面,Calibre nmDRC? 平臺經(jīng)認(rèn)證可用于 10 納米工藝,并成為三星研發(fā)、IP 驗證和無晶圓廠客戶設(shè)計交付的生態(tài)系統(tǒng)中標(biāo)準(zhǔn)的驗收簽核方案。此新聞稿的發(fā)布標(biāo)志了三星使用 Calibre Multi-Patterning 作為三重曝光和四重曝光的制造工藝在多年的合作后取得了成功。

  三星代工廠已確認(rèn) Calibre xACT? 能夠在 10 納米中提供高精度和高性能的寄生參數(shù)提取。Calibre xACT 工具使用集成的場求解器(field solver)來計算復(fù)雜三維 FinFET 結(jié)構(gòu)的寄生參數(shù)。它通過高度可擴展的平行處理方法進(jìn)行性能優(yōu)化。

  其他認(rèn)證則有助于 SoC 設(shè)計工程師進(jìn)行電路驗證、物理應(yīng)用和 IC 測試。例如,AFS 平臺得到三星 10 納米工藝組件模型和設(shè)計套件的認(rèn)證。共同的客戶使用 AFS,為模擬、射頻、混合信號、存儲器和全定制化數(shù)字電路的驗證,提供比傳統(tǒng) SPICE 仿真器更快的納米級的 SPICE 精確度。

  Olympus-SoC 布局和布線平臺也已經(jīng)過認(rèn)證,可用于 10 納米工藝,具有全面的著色設(shè)計方法,包括底層規(guī)劃、布局、寄生參數(shù)抽取、布線和芯片完成要求。為了解決 FinFET 制造工藝中的特殊挑戰(zhàn),該平臺支持 M1 三重曝光、色移(color shifting)、非一致布線通道、光罩和寬度依賴間距規(guī)則以及其他新增功能。有多個共同客戶正在使用該工具進(jìn)行設(shè)計。

  在測試方面,Mentor 和三星已展開合作,使 Tessent 測試產(chǎn)品套件可為新單元結(jié)構(gòu)提供 10 納米級更佳的測試質(zhì)量,同時為更大規(guī)模的 10 納米設(shè)計測試提供更高的測試圖形壓縮率進(jìn)而控制成本。兩家公司還利用生產(chǎn)測試診斷來快速識別和消除設(shè)計試產(chǎn)擴量階段出現(xiàn)的特定于設(shè)計和影響良率的單元特征。

  “我們與三星代工廠的合作遠(yuǎn)非僅僅是將這一先進(jìn)的工藝帶給我們共同的客戶,”Mentor Graphics Design to Silicon部門副總裁兼總經(jīng)理Joe Sawicki說道,“該整合解決方案貫穿于設(shè)計驗證、制造和測試中,為無晶圓公司和三星代工廠之間建立起了高度整合的橋梁。”


本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題,請及時通過電子郵件或電話通知我們,以便迅速采取適當(dāng)措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話:010-82306118;郵箱:aet@chinaaet.com。