記者從中科院光電技術研究所獲悉，該所微電子專用設備研發(fā)團隊自主研制成功紫外納米壓印光刻機。

　　據(jù)中科院光電所微電子裝備總體研究室主任胡松介紹，該所自主研發(fā)的新型光刻機，將納米壓印這一新型高分辨力光刻技術，與具有低成本、高效率特點的紫外光刻技術有機結合。

　　記者了解到，這套設備采用新型納米對準技術，將原光刻設備的對準精度由亞微米量級提升至納米量級。對準是光刻設備三大核心指標之一，是實現(xiàn)功能化器件加工的關鍵。該所在國家自然基金的連續(xù)資助下，完成基于莫爾條紋的高精度對準技術自主研發(fā)，取得專利２０余項。

　　“該技術在光刻機中的成功應用突破了現(xiàn)有納米尺度結構加工的瓶頸問題，為高精度納米器件的加工提供了技術保障?！焙烧f。

　　據(jù)悉，該設備可廣泛應用于微納流控晶片加工、微納光學元件、微納光柵、ＮＭＥＭＳ器件等微納結構器件的制備，具有廣闊的應用前景，目前已完成初試和小批生產，并已在高校與企業(yè)用戶中推廣。