《電子技術(shù)應(yīng)用》
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上海首創(chuàng)“超越摩爾”8英寸中試線

2017-10-24
關(guān)鍵詞: 半導(dǎo)體 摩爾 8英寸 晶圓

一個(gè)產(chǎn)品,從實(shí)驗(yàn)室到工廠,最難走的一段路是中試。因高成本低產(chǎn)出甚至無(wú)產(chǎn)出,對(duì)許多實(shí)驗(yàn)室里的前沿技術(shù)來(lái)說(shuō),中試期猶如一條看不見亮光的黑暗通道,無(wú)緣靠利潤(rùn)和市場(chǎng)來(lái)維持。記者昨天來(lái)到位于嘉定工業(yè)區(qū)北區(qū)的我國(guó)首條“超越摩爾”中試線,探訪這家立志突破我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)“中試盲區(qū)”的研發(fā)創(chuàng)新平臺(tái)。

超潔凈的“懸空”廠房

穿上抗靜電的潔凈服、鞋子、手套、口罩后,經(jīng)過(guò)風(fēng)淋房將身上的微塵全部吹走……每天,上海微技術(shù)工業(yè)研究院MEMS技術(shù)工程總監(jiān)徐元俊和他的同事們,都把自己裝扮成超潔凈的“白企鵝”,才能進(jìn)入8英寸“超越摩爾”研發(fā)中試線,近5000平方米的十級(jí)潔凈室,要求一分鐘內(nèi)每立方英尺空間內(nèi),大于0.2微米的微塵少于10顆!超級(jí)潔凈室共有4個(gè)區(qū)域,分別為光刻區(qū)、薄膜區(qū)、刻蝕區(qū)和擴(kuò)散區(qū)。硅片在“淬煉”成晶圓成品的100至200道工序中,不可沾染微塵,否則可能前功盡棄。

為此,整座廠房的設(shè)計(jì)費(fèi)盡思量——層高8.8米的二樓分為3層,整個(gè)“中試線”的主要設(shè)備似乎“懸空”在中間層——看不見的上下兩層,除鋪設(shè)供應(yīng)氣體和化學(xué)品的管道外,還布滿了用于“清洗”空氣的設(shè)施。

“8英寸”產(chǎn)線國(guó)際領(lǐng)先

這樣的精益求精,只為我國(guó)在“超越摩爾”領(lǐng)域真正有所作為。上海微技術(shù)工業(yè)研究院8英寸研發(fā)中試線廠長(zhǎng)、運(yùn)營(yíng)副總裁游家杰指著閃閃發(fā)光的硅片,如數(shù)家珍:“一片8英寸晶圓直徑達(dá)20厘米,分布著幾百顆到數(shù)萬(wàn)顆不等的元器件?!币?,在“超越摩爾”領(lǐng)域,業(yè)界還普遍使用6英寸產(chǎn)線,上海中試線卻亮出了國(guó)際領(lǐng)先卻少人問(wèn)津的“8英寸”。

這條全新的試驗(yàn)線上,每一位“超越摩爾”人心中都有一個(gè)信念:喜慶十九大,我國(guó)的科學(xué)創(chuàng)新必須從“跟跑”到“領(lǐng)跑”,前沿技術(shù)的中試環(huán)節(jié)要敢為人先!

縱觀我國(guó)超越摩爾領(lǐng)域現(xiàn)狀,經(jīng)歷多年的理論研究與技術(shù)驗(yàn)證,但實(shí)際應(yīng)用與生產(chǎn)平臺(tái)嚴(yán)重脫節(jié)。這源于微機(jī)電系統(tǒng)產(chǎn)品研發(fā)涉及的技術(shù)鏈條較長(zhǎng),其“非標(biāo)”特性使得研發(fā)創(chuàng)新和生產(chǎn)之間匹配度不高,需要漫長(zhǎng)的磨合期。

貫通研發(fā)到測(cè)試“閉環(huán)”

上月,作為上??苿?chuàng)中心建設(shè)“四梁八柱”中的重要節(jié)點(diǎn)之一,國(guó)內(nèi)首條專注“超越摩爾”領(lǐng)域,面向微機(jī)電系統(tǒng)的8英寸中試線亮相,在國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)界引發(fā)了一場(chǎng)不小的“創(chuàng)新地震”——從前期研發(fā)到后期測(cè)試“閉環(huán)”有望被貫通。

一個(gè)月來(lái),“超越摩爾”中試線上燈火通明,各崗位科技人員用實(shí)際行動(dòng)迎接十九大的召開:為本月底即將完成的第一批產(chǎn)品溫度傳感器緊張忙碌著。一旦成功,這條月產(chǎn)量3000片晶圓的中試線,將為許多實(shí)驗(yàn)室里尖端的傳感器技術(shù),鋪設(shè)一條走向市場(chǎng)的“光輝之路”。

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