近期，國產(chǎn)刻蝕機取得新的突破。北方華創(chuàng)近日宣布，公司ICP刻蝕機1000腔已經(jīng)順利交付。
北方華創(chuàng)自2001年成立后便開始組建團隊研發(fā)刻蝕技術(shù)，并于2004年第一臺設(shè)備成功起輝，2005年第一臺8英寸ICP刻蝕機在客戶端上線，并于2007年獲得國家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步二等獎。
目前，北方華創(chuàng)的刻蝕設(shè)備已覆蓋集成電路、LED、先進(jìn)封裝、功率半導(dǎo)體、MEMS、化合物半導(dǎo)體、硅基微顯等多個領(lǐng)域。
其中，12英寸ICP刻蝕機在實現(xiàn)客戶端28nm國產(chǎn)化替代的同時，在14/7nm SADP/SAQP、先進(jìn)存儲器、3D TSV等工藝應(yīng)用中也發(fā)揮著重要作用。
北方華創(chuàng)表示，lCP刻蝕機交付突破1000腔，不僅是公司發(fā)展征程中的重要里程碑，更是國產(chǎn)刻蝕機在歷經(jīng)了二十載自主創(chuàng)新，得到客戶廣泛認(rèn)可的重要標(biāo)志。
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