近期美國商務(wù)部副部長與光刻機制造商ASML共同宣布ASML將斥資2億美元擴建后者位于美國康涅狄格州威爾頓的光刻機工廠,ASML此前確定將第一臺High-NA EUV光刻機--第二代EUV光刻機,第二代EUV光刻機是生產(chǎn)2nm乃至1nm級別工藝的關(guān)鍵設(shè)備。

目前美國芯片企業(yè)Intel與臺積電就先進工藝的競賽正進行得如火如荼,臺積電預(yù)計今年下半年量產(chǎn)3nm工藝,但是隨著知名蘋果分析師郭明錤指蘋果的A16處理器將繼續(xù)采用臺積電的N5P工藝而不是3nm工藝,意味著臺積電的3nm工藝量產(chǎn)已遇到麻煩。

Intel則宣布今年下半年量產(chǎn)Intel 4工藝,由此Intel在先進工藝制程方面正進一步縮短與臺積電的差距,兩者的較量將在2nm以及1nm級別決出勝敗。

此前臺積電曾表示在量產(chǎn)3nm工藝后,2nm乃至更先進的工藝研發(fā)將可能被推遲,2nm工藝最快也得在2025年量產(chǎn),但是Intel迅速宣布Intel 18A工藝將在2025年量產(chǎn),臺積電不甘示弱--宣布它的3nm工藝團隊立即投入研發(fā)1．4nm工藝,以保持在先進工藝制程方面的領(lǐng)先優(yōu)勢。

如今決定Intel和臺積電兩家芯片制造企業(yè)的1nm級別工藝量產(chǎn)時間的關(guān)鍵就在于ASML第二代EUV光刻機了,然而從美國派出商務(wù)部副部長如此高級版的官員與ASML宣布合作來看,可以看出美國對于推進1nm工藝的量產(chǎn)志在必得,對于臺積電將頗為不妙。

如今的臺積電已受到美國方面的嚴(yán)重掣肘,它有近七成營收來自美國芯片企業(yè),而一些關(guān)鍵技術(shù)也來自于美國,由此去年它在多番掙扎之后最終還是向美國交出了機密數(shù)據(jù),凸顯出它的無奈。

為了爭取美國的支持,臺積電也做出了努力,按照美國的要求如期在美國設(shè)廠并引入它當(dāng)下最先進的5nm工藝,然而美方卻對此前承諾的提供高額補貼的計劃遲遲未落實,對臺積電的態(tài)度似乎已發(fā)生變化。

其中最顯著的變化就是在美國的影響下ASML最終決定將第一臺第二代EUV光刻機交付給Intel,同時美方可能將520億美元補貼用于扶持美國本土芯片企業(yè);近期美方相關(guān)人員在訪問亞洲的時候參觀了三星的3nm工廠,卻沒到訪臺積電的3nm工廠,這都顯示出美國態(tài)度的微妙。

或許此刻的臺積電已后悔當(dāng)初遵從美國的要求,停止為華為代工生產(chǎn)芯片,隨后更導(dǎo)致眾多中國大陸芯片企業(yè)撤單,中國大陸芯片企業(yè)為臺積電貢獻的營收也迅速從22%暴降至6%,在臺積電如此合作的情況下卻換來美國如此態(tài)度。

臺積電相關(guān)人員如今也有些變化,臺積電創(chuàng)始人張忠謀以及董事長劉德音都先后對當(dāng)下正推進的美國工廠發(fā)出了一些聲音,張忠謀指出美國制造的成本太高導(dǎo)致它并不適合發(fā)展芯片制造,與此相印證的則是Intel最先進的Intel 4工藝工廠也設(shè)在愛爾蘭而不是美國本土,都在提醒著美國發(fā)展先進工藝所面臨的成本問題。

臺積電對當(dāng)下美方的態(tài)度變化也做出了相應(yīng)的轉(zhuǎn)變,今年一季度它在芯片產(chǎn)能依然緊張的情況下釋放了部分先進工藝產(chǎn)能給中國大陸芯片企業(yè),由此中國大陸芯片行業(yè)給臺積電貢獻的營收已達到11%,較去年的6%大幅增長,似乎臺積電希望借力中國大陸芯片行業(yè)制衡美國芯片。

如今中國大陸已是全球最大的芯片市場,對先進工藝產(chǎn)能確實有很強烈的需求,中國大陸芯片行業(yè)在AI、物聯(lián)網(wǎng)等新興科技領(lǐng)域也取得了部分優(yōu)勢,具備與美國芯片行業(yè)競爭的部分實力,可以說中國大陸芯片和臺積電合作將是共贏。