近日國內(nèi)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈的企業(yè)之一，傳芯半導(dǎo)體公開宣布已經(jīng)20余項(xiàng)EUV光刻機(jī)技術(shù)專利，加上此前在激光光源、工作臺(tái)、鏡頭等方面所取得的成果，國產(chǎn)EUV光刻機(jī)已取得了重大進(jìn)展，或許數(shù)年后國產(chǎn)EUV光刻機(jī)就將量產(chǎn)，這正讓ASML后悔莫及。

光刻機(jī)之所以難，在于它是集諸多行業(yè)的精華于一身，需要諸多產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)共同配合才能量產(chǎn)，一臺(tái)光刻機(jī)就有上萬個(gè)元件，可以說只是光刻機(jī)本身就是一條相當(dāng)大的產(chǎn)業(yè)鏈。

此前清華大學(xué)機(jī)械工程系朱煜教授帶隊(duì)的清華大學(xué)研發(fā)團(tuán)隊(duì)就已研發(fā)出光刻機(jī)雙工作臺(tái)，由此中國成為全球第二個(gè)可以生產(chǎn)雙工作臺(tái)的國家；此外激光頭、鏡頭等廠商也陸續(xù)生產(chǎn)出先進(jìn)的組件，各個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的努力正逐漸完善國內(nèi)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈。

此時(shí)傳芯半導(dǎo)體公開宣布已經(jīng)20余項(xiàng)EUV光刻機(jī)技術(shù)專利，意味著我國在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)技術(shù)研發(fā)方面也已取得了重大突破。EUV光刻機(jī)的技術(shù)難度比當(dāng)前正在攻克的DUV光刻機(jī)更大，在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)都已取得技術(shù)突破的時(shí)候，DUV光刻機(jī)量產(chǎn)自然就更沒難度了。

中國在光刻機(jī)方面的技術(shù)迅速突破，在于此前具有一定的基礎(chǔ)，事實(shí)上在1990年代的時(shí)候，我國的光刻機(jī)技術(shù)與海外差距沒有如今那么大，只是后來由于海外光刻機(jī)企業(yè)的日漸強(qiáng)大，以及當(dāng)時(shí)發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)時(shí)機(jī)未到，國產(chǎn)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈逐漸凋零，如今經(jīng)過近十年時(shí)間的努力，國內(nèi)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈再度打通也就不在話下。

中國在光刻機(jī)技術(shù)方面的快速突破，已讓ASML感到擔(dān)憂，事實(shí)上此前在美國的諸多壓力下，ASML的高管就表示限制ASML向中國供應(yīng)光刻機(jī)無助于全球產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展，中國遲早能解決光刻機(jī)問題。

對(duì)于ASML來說，中國市場(chǎng)對(duì)它意義重大，2021年和今年一季度中國市場(chǎng)為它貢獻(xiàn)了三分之一的收入，已成為它的最大市場(chǎng)，如此大的市場(chǎng)，當(dāng)然是ASML不能輕易舍棄的，事實(shí)今年一季度在諸多壓力下，ASML就緊急對(duì)中國出貨23臺(tái)DUV光刻機(jī)，更計(jì)劃在中國增加200名員工，以更好地為中國客戶服務(wù)，取得更多市場(chǎng)。

ASML另一重?fù)?dān)憂則是中國光刻機(jī)技術(shù)的快速發(fā)展，可能成為它的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，中國制造此前的事實(shí)一再證明，只要中國取得突破的技術(shù)，那么量產(chǎn)的產(chǎn)品往往比海外競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的便宜許多，在成本方面ASML根本就不是中國同行的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。

中國除了繼續(xù)研發(fā)光刻機(jī)之外，還在研發(fā)無需光刻機(jī)的芯片制造工藝，這方面已有日本做出示范，日本企業(yè)研發(fā)的NIL工藝就無需光刻機(jī)并已給日本存儲(chǔ)芯片企業(yè)鎧俠采用，證明了無需光刻機(jī)也能生產(chǎn)芯片，而日本預(yù)計(jì)NIL工藝可用于5nm芯片的生產(chǎn)，如果這一工藝得到推廣對(duì)ASML更是滅頂之災(zāi)。

這些消息都無不讓ASML如鯁在喉，所以美國方面一再施加壓力，但是ASML卻一直都認(rèn)為限制DUV光刻機(jī)沒有多大意義，DUV光刻機(jī)已是多年前就已成熟的技術(shù)，中國在DUV光刻機(jī)方面的進(jìn)展將會(huì)更快，如今中國在EUV光刻機(jī)技術(shù)上的進(jìn)展如此迅速，顯示出中國不僅在DUV光刻機(jī)技術(shù)方面進(jìn)展迅速，在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)技術(shù)方面同樣很快。

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