本文作者： 周凱揚
本文來源： 電子發(fā)燒友網(wǎng)
原文地址：https://mp.weixin.qq.com/s/e9n2GflE9ZxHAmYfflW7pQ
RISC-V要想在半導體市場闖出一片天，不僅要從低功耗芯片上走量，也勢必要在高性能處理器上有所建樹。在RISC-V剛開始飛速發(fā)展之際，SiFive、平頭哥等IP廠商都紛紛提出了自己的旗艦產(chǎn)品，欲與ARM扳手腕。2019年平頭哥在阿里云峰會上發(fā)布的玄鐵910，也開啟了RISC-V生態(tài)內部對高性能內核的追求。那么在四載之后的2023年，RISC-V的處理器核心究竟有多能打，我們不妨拿近期發(fā)布的一些新品來比較一下。
SiFive P670
SiFive長久以來都是高性能RISC-V內核的領軍者，隨著這幾年的創(chuàng)新，其IP核陣容也從原來的Essential系列，擴充出了Peformance（性能）、Automotive（汽車）和Intelligence（AI）三大系列。其中Peformance系列處理器就是為了最大性能設計的，最低也是8級流水線雙發(fā)射的設計。
而SiFive去年11月1日發(fā)布的P670，象征著Peformance系列性能王者的出現(xiàn)，也是目前可商用授權RISC-V核心中性能最高的產(chǎn)品。P670作為一款13級流水線四發(fā)射的亂序處理器，在性能上比上一代P550提升了50%以上，SiFive表示即便是與Arm的Cortex-A78相比，也有顯著的PPA優(yōu)勢。
目前P670僅公布了12 SpecINT2K6/GHz以上的單核跑分，不過單單是這一個成績也足以冠絕群雄了。不過這也是因為P670采用了5nm設計工藝，主頻可以達到3.4GHz以上。不過如果要與Arm最新的A715中核相比該略有遜色，更不用說Cortex X3了。但這已經(jīng)證明了RISC-V這幾年在高性能內核上的進步，與Arm相比也僅僅只有一到兩代的差距了。
晶心科技AX65
晶心科技作為老牌RISC-V IP廠商，已經(jīng)在物聯(lián)網(wǎng)和邊緣計算領域有了完整的RISC-V產(chǎn)品線布局，也從去年開始發(fā)力AI計算。但相較SiFive、平頭哥之類的廠商，一直欠缺流水線深度在10級以上的高性能產(chǎn)品。
而去年發(fā)布的AX65改變了這一現(xiàn)狀，13級流水線4發(fā)射的設計，加上7nm的工藝，使得這款全新AndesCore的性能達到了9.16 CoreMark/MHz、7 SPECint2K6/GHz。這對于晶心科技現(xiàn)有的產(chǎn)品陣容來說是一個強力的補充，借助這一處理器核心的推出，晶心科技也可以探索除了5G、物聯(lián)網(wǎng)和可穿戴之外，計算密度更高的應用。
進迭時空X100
同樣在去年底，杭州企業(yè)進迭時空公開了他們自研的高性能RISC-V核心X100。即便是這家企業(yè)的首款RISC-V核心，X100依然展現(xiàn)出了不可小覷的實力。根據(jù)進迭時空公開的數(shù)據(jù)，X100的單核跑分達到7.5 SPECint2k6G/Hz，Coremark達到7.7/MHz，Dhrystone達到6.5DMIPS/MHz，最高支持16核的配置。
同時進迭時空將X100標榜為一顆高性能融合計算處理器核心，因為在AI應用上，X100也能提供8TOPS@INT8的算力。進迭時空稱X100在通用計算性能上超過ARM A75，在AI應用上的性能大幅超過ARM A76。
作為才成立一年多的初創(chuàng)企業(yè)，進迭時空是如何打造出性能如此高的芯片的？其實從其團隊組成來看就不意外了，進迭時空的開發(fā)團隊來自平頭哥、全志等企業(yè)，已經(jīng)擁有了玄鐵處理器IP開發(fā)和芯片落地量產(chǎn)的經(jīng)驗。不過從進迭時空目前的戰(zhàn)略方向來看，他們還是計劃通過X100來攻占機器人、自動駕駛、AR/VR等邊緣計算的應用。
RISC-V高性能處理器的未來
平頭哥的玄鐵910在2019年可以說是橫空出世的旗艦產(chǎn)品，當時以7.1CoreMark/MHz的成績遠超同期的競品，可以與Arm的A72一戰(zhàn)。但隨著工藝的進化，流水線深度的提高，后續(xù)有不少超越玄鐵910的RISC-V內核面世。
不過從平頭哥的開發(fā)路線圖上看，玄鐵910的繼任者也已經(jīng)在研發(fā)階段，或許不久的將來我們就會迎來新的性能怪獸。除此以外，還有不少商用、開源的高性能RISC-V內核正在醞釀和研發(fā)中，諸如香山處理器等。這些處理器內核也將隨著RISC-V指令集的進一步完善，被應用到對性能要求更高的芯片設計中去。