9月20日，據(jù)Business Korea援引日本財(cái)務(wù)省最新發(fā)布的報(bào)告報(bào)道稱，今年8月份日本對(duì)中國(guó)的半導(dǎo)體設(shè)備出口額同比飆升 61.6%，達(dá)到 1799 億日元（約合12.9億美元或人民幣88億元）。盡管美國(guó)聯(lián)合日本和荷蘭對(duì)中國(guó)實(shí)施了先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備的出口管制，但日本對(duì)華半導(dǎo)體設(shè)備出口的大幅增長(zhǎng)，凸顯了中國(guó)對(duì)于成熟制程半導(dǎo)體制造設(shè)備的持續(xù)需求。

報(bào)告稱，上個(gè)月日本出口到中國(guó)的設(shè)備總重量為 6,742 噸，比上個(gè)月增長(zhǎng) 41%。機(jī)械和設(shè)備占日本對(duì)中國(guó)出口總額的 23.2%，其中半導(dǎo)體設(shè)備占比 11.9%。這種激增凸顯了日本在全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈中的關(guān)鍵作用，為半導(dǎo)體制造提供必要的技術(shù)和材料。

與此同時(shí)，領(lǐng)先的光刻機(jī)供應(yīng)商荷蘭公司 ASML 對(duì)中國(guó)的出口額也有所增長(zhǎng)。今年第二季度，ASML對(duì)中國(guó)的出口額比上一季度增長(zhǎng)了21%，達(dá)到23億歐元。ASML 是全球最大的光刻設(shè)備供應(yīng)商，同時(shí)也是唯一的極紫外 （EUV） 光刻機(jī)供應(yīng)商，該設(shè)備對(duì)于生產(chǎn)7nm以下制程工藝的半導(dǎo)體至關(guān)重要。

值得注意的是，根據(jù)中國(guó)工信部公布的資料顯示，中國(guó)國(guó)產(chǎn)的65nm分辨率、≤8nm套刻精度的光刻機(jī)已經(jīng)就緒。另外，近期上海微電子 （SMEE）申請(qǐng)的一項(xiàng)“極紫外 （EUV） 輻射發(fā)生器和光刻設(shè)備”的專利也被曝光。這些信息都反應(yīng)了中國(guó)在推動(dòng)先進(jìn)光刻設(shè)備國(guó)產(chǎn)化方面的努力。

《南華早報(bào)》評(píng)論說：“這是一個(gè)很好的例子，說明中國(guó)半導(dǎo)體公司如何在美國(guó)制裁的情況下擴(kuò)大其先進(jìn)設(shè)備市場(chǎng)。

美國(guó)財(cái)政部于9月 19 日和 20 日在中國(guó)召開了“經(jīng)濟(jì)工作組”會(huì)議，以傳達(dá)對(duì)中國(guó)未來成熟制程半導(dǎo)體產(chǎn)能過剩的擔(dān)憂。此次會(huì)議反映了美國(guó)和中國(guó)之間持續(xù)的貿(mào)易緊張局勢(shì)，尤其是在科技和半導(dǎo)體領(lǐng)域。有人猜測(cè)，美國(guó)和日本政府可能會(huì)出臺(tái)與半導(dǎo)體技術(shù)對(duì)華出口限制相關(guān)的額外政策。

對(duì)中國(guó)的制裁可能加劇，這引發(fā)了人們對(duì)全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈可能中斷的擔(dān)憂。中國(guó)可以通過阻止半導(dǎo)體制造必需礦物（如鎵和石墨）的出口來回應(yīng)。此舉可能會(huì)對(duì)全球公司產(chǎn)生重大影響，包括三星電子等韓國(guó)巨頭，這些公司可能面臨半導(dǎo)體生產(chǎn)中斷。