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泛林集團(tuán)推出全球首個(gè)金屬鉬原子層沉積設(shè)備ALTUS Halo

2025-02-21
來(lái)源:芯智訊

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2月19日,泛林集團(tuán)宣布推出全球首個(gè)利用金屬鉬的能力生產(chǎn)尖端半導(dǎo)體的工具ALTUS Halo,可以為先進(jìn)半導(dǎo)體器件提供卓越的特征填充和低電阻率、無(wú)空隙鉬金屬化的高精度沉積。

泛林集團(tuán)表示,ALTUS Halo是ALTUS 產(chǎn)品系列的最新成員,目前正在與所有領(lǐng)先的芯片制造商進(jìn)行資格認(rèn)證和爬坡,它代表了半導(dǎo)體金屬化新時(shí)代的轉(zhuǎn)折點(diǎn),為未來(lái)人工智能、云計(jì)算和下一代智能設(shè)備的高級(jí)存儲(chǔ)器和邏輯芯片的擴(kuò)展鋪平了道路。

ALTUS Halo 利用鉬的潛力隨著下一代應(yīng)用的性能要求不斷提高,對(duì)更先進(jìn)半導(dǎo)體和新制造工藝的需求也在增加。金屬的逐原子沉積在當(dāng)今所有尖端芯片的制造中都是必不可少的。鎢基原子層沉積技術(shù)由泛林集團(tuán)率先提出,二十多年來(lái)一直是用于接觸和線的沉積和無(wú)空隙填充的主要金屬化技術(shù)。然而,為了在未來(lái)擴(kuò)展 NAND、DRAM 和邏輯器件,芯片制造商需要將金屬化程度轉(zhuǎn)變?yōu)槌侥壳版u集成所能實(shí)現(xiàn)的程度。憑借 ALTUS Halo,泛林集團(tuán)在半導(dǎo)體行業(yè)從鎢到鉬的過(guò)渡中發(fā)揮著領(lǐng)導(dǎo)作用。

“基于泛林集團(tuán)深厚的金屬化專(zhuān)業(yè)知識(shí),ALTUS Halo 是 20 多年來(lái)原子層沉積領(lǐng)域最重大的突破,”Lam Research 高級(jí)副總裁兼全球產(chǎn)品集團(tuán)總經(jīng)理 Sesha Varadarajan 說(shuō)?!八鼌R集了泛林集團(tuán)的四站模塊架構(gòu)和 ALD 技術(shù)的新進(jìn)展,為大批量制造提供工程化的低電阻率鉬沉積,這是新興和未來(lái)芯片變化的關(guān)鍵要求,包括 1,000 層 3D NAND、4F2DRAM 和先進(jìn)的 gate-all-around logic。

鉬實(shí)現(xiàn)下一代芯片

所需的低電阻金屬化為了使半導(dǎo)體工作,快速電信號(hào)通過(guò) 3D NAND 字線等連接來(lái)發(fā)送命令。納米級(jí)特征被蝕刻,當(dāng)不能使用銅時(shí),它們傳統(tǒng)上會(huì)填充鎢以形成必要的連接。金屬電阻率越低,信號(hào)速度越快。此外,在傳統(tǒng)的鎢基布線中,會(huì)添加額外的阻擋層以防止不必要的電氣相互作用。隨著 NAND、DRAM 和邏輯擴(kuò)展到更復(fù)雜的架構(gòu)(包括 3D 集成),電信號(hào)必須通過(guò)更嚴(yán)格的連接。這增加了瓶頸和速度變慢的可能性,在某些情況下還增加了電氣短路的可能性。

鉬是這些和未來(lái)應(yīng)用的理想金屬,因?yàn)樗诩{米級(jí)線中的電阻率低于鎢,并且不需要粘附層或阻擋層,從而減少了工藝步驟的數(shù)量,提高了效率并有助于提高芯片速度。基于數(shù)十年的金屬化和先進(jìn)開(kāi)發(fā)專(zhuān)業(yè)知識(shí),以及沉積技術(shù)的新創(chuàng)新,Lam 首次使鉬的 ALD 可用于大規(guī)模生產(chǎn)。在大多數(shù)情況下,與傳統(tǒng)的鎢金屬化相比,ALTUS Halo 的電阻提高了 50% 以上。

ALTUS Halo 已開(kāi)始量產(chǎn)

ALTUS Halo 提供半導(dǎo)體行業(yè)中最精確、最先進(jìn)的鉬沉積。ALTUS Halo 工具系列針對(duì)一系列金屬化需求進(jìn)行了優(yōu)化,能夠使用化學(xué)和熱柔韌性以及等離子體為溫度敏感應(yīng)用進(jìn)行保形或選擇性沉積,并帶有自下而上的填充特征。

在韓國(guó)和新加坡設(shè)有晶圓廠的領(lǐng)先大批量 3D NAND 制造商以及先進(jìn)的邏輯晶圓廠已開(kāi)始采用早期采用,同時(shí) DRAM 客戶(hù)的開(kāi)發(fā)仍在繼續(xù)。

“鉬金屬化的集成使美光能夠在最新一代 NAND 產(chǎn)品中率先推出行業(yè)領(lǐng)先的 I/O 帶寬和存儲(chǔ)容量,”美光 NAND 開(kāi)發(fā)公司副總裁 Mark Kiehlbauch 說(shuō)?!胺毫旨瘓F(tuán)的 ALTUS Halo 工具使美光能夠?qū)f投入大規(guī)模生產(chǎn)?!?/p>


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