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Intel前CEO基辛格投身EUV光刻

2025-04-14
來(lái)源:快科技
關(guān)鍵詞: EUV 光刻機(jī) 基辛格

4月14日消息,Intel前任CEO帕特·基辛格已經(jīng)找到了新工作!本人親自宣布,已經(jīng)加盟xLight擔(dān)任執(zhí)行董事長(zhǎng)。

xLight是一家半導(dǎo)體行業(yè)創(chuàng)業(yè)公司,主要業(yè)務(wù)室面向EUV極紫外光刻機(jī),開(kāi)發(fā)基于直線(xiàn)電子加速器的自由電子激光(FEL)技術(shù)光源系統(tǒng),可顯著降低成本。

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目前的ASML EUV光刻機(jī)使用的是激光等離子體EUV光源(LPP),依賴(lài)超高功率的高能激光脈沖,因此整個(gè)系統(tǒng)極為龐大、復(fù)雜,而產(chǎn)生的EUV光源功率有限,這也是其成本、價(jià)格高昂的核心原因,單價(jià)超過(guò)1.5億美元。

因此,美國(guó)、中國(guó)、日本等都在積極研究替代方案,F(xiàn)EL自由電子激光器就是廣為看好的EUV光源,包括振蕩器、自放大自發(fā)輻射兩大技術(shù)路線(xiàn)。

它可以產(chǎn)生超過(guò)10kW功率的EVU光源功率,可同時(shí)滿(mǎn)足10臺(tái)光刻機(jī)的需要,而且不會(huì)產(chǎn)生錫滴碎片而污染環(huán)境。

其實(shí),ASML早在十年前就考慮過(guò)FEL EUV光源路線(xiàn),但最終認(rèn)為風(fēng)險(xiǎn)偏高,而走向了LPP EUV光源。

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有關(guān)研究顯示,10kW功率的FEL EUV光源的建設(shè)成本約為4億美元,每年運(yùn)營(yíng)成本4000萬(wàn)美元。

相比之下,250W功率的LPP EUV光源的建設(shè)成本約為2000萬(wàn)美元,每年運(yùn)營(yíng)成本1500萬(wàn)美元。

算下來(lái),EFL路線(xiàn)的建設(shè)成本只有LPP路線(xiàn)的1/2,運(yùn)營(yíng)成本更是1/15,綜合成本約為1/3。

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基辛格加盟的xLight公司,正在研發(fā)基于ERL(能量回收直線(xiàn)加速器)的FEL EUV光源系統(tǒng),可提供1000W的功率,四倍于ASML,從而將單塊晶圓光刻成本降低約50%,而且單個(gè)光源系統(tǒng)就能支持20臺(tái)光刻機(jī),壽命也長(zhǎng)達(dá)30年。

xLight FEL EUV光源系統(tǒng)的另一個(gè)好處,就是兼容現(xiàn)有的ASML EUV光刻機(jī),可以直接整合,預(yù)計(jì)2028年可接入ASML光刻機(jī),并開(kāi)始生產(chǎn)晶圓。

xLight公司規(guī)模不大,但是團(tuán)隊(duì)在光刻和加速器領(lǐng)域擁有豐富經(jīng)驗(yàn),包括來(lái)自斯坦福直線(xiàn)加速器等的資深研究人士,首席科學(xué)家Gennady Stupakov博士曾在去年拿到IEEE核能和等離子體科學(xué)學(xué)會(huì)粒子加速器科學(xué)技術(shù)獎(jiǎng)。

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