MEMS(Micro Electromechanical System,即微電子機(jī)械系統(tǒng))是指集微型傳感器、執(zhí)行器以及信號(hào)處理和控制電路、接口電路、通信和電源于一體的微型機(jī)電系統(tǒng)。它是在融合多種微細(xì)加工技術(shù),并應(yīng)用現(xiàn)代信息技術(shù)的最新成果的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的高科技前沿學(xué)科。
MEMS技術(shù)的發(fā)展開(kāi)辟了一個(gè)全新的技術(shù)領(lǐng)域和產(chǎn)業(yè),采用MEMS技術(shù)制作的微傳感器、微執(zhí)行器、微型構(gòu)件、微機(jī)械光學(xué)器件、真空微電子器件、電力電子器件等在航空、航天、汽車(chē)、生物醫(yī)學(xué)、環(huán)境監(jiān)控、軍事以及幾乎人們所接觸到的所有領(lǐng)域中都有著十分廣闊的應(yīng)用前景。MEMS技術(shù)正發(fā)展成為一個(gè)巨大的產(chǎn)業(yè),就象近20年來(lái)微電子產(chǎn)業(yè)和計(jì)算機(jī)產(chǎn)業(yè)給人類(lèi)帶來(lái)的巨大變化一樣,MEMS也正在孕育一場(chǎng)深刻的技術(shù)變革并對(duì)人類(lèi)社會(huì)產(chǎn)生新一輪的影響。目前MEMS市場(chǎng)的主導(dǎo)產(chǎn)品為壓力傳感器、加速度計(jì)、微陀螺儀、墨水噴咀和硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)頭等。大多數(shù)工業(yè)觀(guān)察家預(yù)測(cè),未來(lái)5年MEMS器件的銷(xiāo)售額將呈迅速增長(zhǎng)之勢(shì),年平均增加率約為18%,因此對(duì)對(duì)機(jī)械電子工程、精密機(jī)械及儀器、半導(dǎo)體物理等學(xué)科的發(fā)展提供了極好的機(jī)遇和嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。
MEMS壓力傳感器可以用類(lèi)似集成電路的設(shè)計(jì)技術(shù)和制造工藝,進(jìn)行高精度、低成本的大批量生產(chǎn),從而為消費(fèi)電子和工業(yè)過(guò)程控制產(chǎn)品用低廉的成本大量使用MEMS傳感器打開(kāi)方便之門(mén),使壓力控制變得簡(jiǎn)單、易用和智能化。傳統(tǒng)的機(jī)械量壓力傳感器是基于金屬?gòu)椥泽w受力變形,由機(jī)械量彈性變形到電量轉(zhuǎn)換輸出,因此它不可能如MEMS壓力傳感器那樣,像集成電路那么微小,而且成本也遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于MEMS壓力傳感器。相對(duì)于傳統(tǒng)的機(jī)械量傳感器,MEMS壓力傳感器的尺寸更小,最大的不超過(guò)一個(gè)厘米,相對(duì)于傳統(tǒng)“機(jī)械”制造技術(shù),其性?xún)r(jià)比大幅度提高。
圖1 惠斯頓電橋電路原理
圖2 應(yīng)變片電橋的光刻版本
圖3 硅壓阻式壓力傳感器結(jié)構(gòu)
MEMS壓力傳感器原理
目前的MEMS壓力傳感器有硅壓阻式壓力傳感器和硅電容式壓力傳感器,兩者都是在硅片上生成的微機(jī)械電子傳感器。
硅壓阻式壓力傳感器是采用高精密半導(dǎo)體電阻應(yīng)變片組成惠斯頓電橋作為力電變換測(cè)量電路的,具有較高的測(cè)量精度、較低的功耗和極低的成本?;菟诡D電橋的壓阻式傳感器,如無(wú)壓力變化,其輸出為零,幾乎不耗電。其電原理如圖1所示。硅壓阻式壓力傳感器其應(yīng)變片電橋的光刻版本如圖2。
圖4 硅壓阻式壓力傳感器實(shí)物
圖5
圖6 電容式壓力傳感器實(shí)物
MEMS硅壓阻式壓力傳感器采用周邊固定的圓形應(yīng)力杯硅薄膜內(nèi)壁,采用MEMS技術(shù)直接將四個(gè)高精密半導(dǎo)體應(yīng)變片刻制在其表面應(yīng)力最大處,組成惠斯頓測(cè)量電橋,作為力電變換測(cè)量電路,將壓力這個(gè)物理量直接變換成電量,其測(cè)量精度能達(dá)0.01-0.03%FS。硅壓阻式壓力傳感器結(jié)構(gòu)如圖3所示,上下二層是玻璃體,中間是硅片,硅片中部做成一應(yīng)力杯,其應(yīng)力硅薄膜上部有一真空腔,使之成為一個(gè)典型的絕壓壓力傳感器。應(yīng)力硅薄膜與真空腔接觸這一面經(jīng)光刻生成如圖2的電阻應(yīng)變片電橋電路。當(dāng)外面的壓力經(jīng)引壓腔進(jìn)入傳感器應(yīng)力杯中,應(yīng)力硅薄膜會(huì)因受外力作用而微微向上鼓起,發(fā)生彈性變形,四個(gè)電阻應(yīng)變片因此而發(fā)生電阻變化,破壞原先的惠斯頓電橋電路平衡,電橋輸出與壓力成正比的電壓信號(hào)。圖4是封裝如集成電路的硅壓阻式壓力傳感器實(shí)物照片。
電容式壓力傳感器利用MEMS技術(shù)在硅片上制造出橫隔柵狀,上下二根橫隔柵成為一組電容式壓力傳感器,上橫隔柵受壓力作用向下位移,改變了上下二根橫隔柵的間距,也就改變了板間電容量的大小,即△壓力=△電容量(圖5)。電容式壓力傳感器實(shí)物如圖6。
MEMS壓力傳感器的應(yīng)用
MEMS壓力傳感器廣泛應(yīng)用于汽車(chē)電子如TPMS、發(fā)動(dòng)機(jī)機(jī)油壓力傳感器、汽車(chē)剎車(chē)系統(tǒng)空氣壓力傳感器、汽車(chē)發(fā)動(dòng)機(jī)進(jìn)氣歧管壓力傳感器(TMAP)、柴油機(jī)共軌壓力傳感器。消費(fèi)電子如胎壓計(jì)、血壓計(jì)、櫥用秤、健康秤,洗衣機(jī)、洗碗機(jī)、電冰箱、微波爐、烤箱、吸塵器用壓力傳感器,空調(diào)壓力傳感器,洗衣機(jī)、飲水機(jī)、洗碗機(jī)、太陽(yáng)能熱水器用液位控制壓力傳感器。工業(yè)電子如數(shù)字壓力表、數(shù)字流量表、工業(yè)配料稱(chēng)重等。
典型的MEMS壓力傳感器管芯(die)結(jié)構(gòu)和電原理如圖7所示,左是電原理圖,即由電阻應(yīng)變片組成的惠斯頓電橋,右為管芯內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖。典型的MEMS壓力傳感器管芯可以用來(lái)生產(chǎn)各種壓力傳感器產(chǎn)品,如圖8所示。MEMS壓力傳感器管芯可以與儀表放大器和ADC管芯封裝在一個(gè)封裝內(nèi)(MCM),使產(chǎn)品設(shè)計(jì)師很容易使用這個(gè)高度集成的產(chǎn)品設(shè)計(jì)最終產(chǎn)品。
MEMS壓力傳感器Die的設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售鏈
MEMS壓力傳感器Die的設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售鏈如圖9所示。目前集成電路的4寸圓晶片生產(chǎn)線(xiàn)的大多數(shù)工藝可為MEMS生產(chǎn)所用。但是需要增加雙面光刻機(jī)、濕法腐蝕臺(tái)和鍵合機(jī)三項(xiàng)MEMS特有的工藝設(shè)備。壓力傳感器產(chǎn)品生產(chǎn)廠(chǎng)商需要增加價(jià)格不菲的標(biāo)準(zhǔn)壓力檢測(cè)設(shè)備。
對(duì)于MEMS壓力傳感器生產(chǎn)廠(chǎng)家來(lái)說(shuō),開(kāi)拓汽車(chē)電子以及消費(fèi)電子領(lǐng)域的銷(xiāo)售經(jīng)驗(yàn)和渠道是十分重要和急需的。特別是汽車(chē)電子對(duì)MEMS壓力傳感器的需要量在近幾年激增,如捷伸電子的年需求量約為200-300萬(wàn)個(gè)。
MEMS芯片在設(shè)計(jì)、工藝、生產(chǎn)方面與IC的異同
與傳統(tǒng)IC行業(yè)注重二維靜止的電路設(shè)計(jì)不同,MEMS以理論力學(xué)為基礎(chǔ),結(jié)合電路知識(shí)設(shè)計(jì)三維動(dòng)態(tài)產(chǎn)品。對(duì)于在微米尺度進(jìn)行機(jī)械設(shè)計(jì)會(huì)更多地依靠經(jīng)驗(yàn),設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)工具(Ansys)也與傳統(tǒng)IC(如EDA)不同。MEMS加工除了使用大量傳統(tǒng)的IC工藝,還需要一些特殊工藝,如雙面刻蝕,雙面光刻等。MEMS比較傳統(tǒng)IC,工藝簡(jiǎn)單,光刻步驟少,MEMS生產(chǎn)的一些非標(biāo)準(zhǔn)的特殊工藝,工藝參數(shù)需要按照產(chǎn)品的要求來(lái)進(jìn)行調(diào)整。由于需要產(chǎn)品設(shè)計(jì)、工藝設(shè)計(jì)和生產(chǎn)三方面的密切配合,IDM的模式要優(yōu)于Fabless+Foundry的模式。MEMS對(duì)封裝技術(shù)的要求很高。傳統(tǒng)半導(dǎo)體廠(chǎng)商的4〃生產(chǎn)線(xiàn)正面臨淘汰,即使用來(lái)生產(chǎn)LDO,其利潤(rùn)也非常低,但是,如果生產(chǎn)MEMS,則可獲得較高的利潤(rùn)。4〃線(xiàn)上的每一個(gè)圓晶片可生產(chǎn)合格的MEMS壓力傳感器Die5-6K個(gè),每個(gè)出售后,可獲成本7-10倍的毛利(如圖10)。轉(zhuǎn)產(chǎn)MEMS對(duì)廠(chǎng)家的工藝要求改動(dòng)不大,新增輔助設(shè)備有限,投資少、效益高。MEMS芯片與IC芯片整合封裝是集成電路技術(shù)發(fā)展的新趨勢(shì),也是傳統(tǒng)IC廠(chǎng)商的新機(jī)遇。圖11是MEMS在4〃圓晶片生產(chǎn)線(xiàn)上。
4〃生產(chǎn)MEMS壓力傳感器Die成本估計(jì)
4”圓晶片生產(chǎn)線(xiàn)生產(chǎn)MEMS壓力傳感器Die成本估計(jì)如表所示,新增固定成本是指為該項(xiàng)目投入的人員成本和新設(shè)備的折舊(人員:專(zhuān)家1名+MEMS設(shè)計(jì)師2名+工程師4名+工藝師5名+技工12名,年成本147萬(wàn)元,新增設(shè)備投入650萬(wàn)元,按90%四年折舊計(jì)算);現(xiàn)有4”線(xiàn)成本是指在5次光刻條件下使用4”線(xiàn)的成本(包括人工、化劑、水電、備件等的均攤成本);硅片材料成本是指雙拋4寸硅片的價(jià)格。