隨著一線晶圓代工業(yè)者的7奈米制程即將陸續(xù)進入試產(chǎn)、量產(chǎn)階段，電子設(shè)計自動化（EDA）也快速跟上，針對7奈米及12奈米制程提供各種對應(yīng)解決方案。 EDA業(yè)者明導(dǎo)國際（Mentor Graphics）宣布，該公司的Calibre設(shè)計工具平臺，包含設(shè)計規(guī)范檢查（DRC）、多重曝光（Multi－Patterning）、布局繞線（P＆R）工具等，已通過臺積電的12奈米FFC及７奈米V1．0制程認證。 Calibre現(xiàn)在已可支持最新的TSMC 12FFC制程設(shè)計協(xié)助客戶的設(shè)計。 此外，AFS電路驗證平臺，包括AFS Mega，技術(shù)已成熟（readiness）可支持12FFC技術(shù)與臺積電建模接口（TMI）。

對于臺積電 7奈米制程，完整的Calibre實現(xiàn)套件現(xiàn)已更新至V1．0版本，適用于客戶的生產(chǎn)設(shè)計交付制造。 歷經(jīng)數(shù)回的改版發(fā)表，臺積電與明導(dǎo)持續(xù)合作提升Calibre DRC 執(zhí)行效能。 目前的V1．0版本與初期的版本相比，執(zhí)行速度已顯著提升。

可靠度是現(xiàn)今許多電子產(chǎn)品成功的關(guān)鍵因素。 臺積電與明導(dǎo)國際擴展其合作關(guān)系至7奈米制程，可提供完備的靜電放電（ESD）與閂鎖（latch－up）問題驗證，這些都會對可靠的效能與產(chǎn)品使用壽命帶來影響。 此合作關(guān)系也造就了Calibre PERC工具中的多CPU運算功能發(fā)展，能被用來進行全設(shè)計的點對點（P2P）阻抗和電流密度（CD）檢查。

工程變更指令（ECO）通常都會在設(shè)計流程的后期才發(fā)生，而影響了交付制造的時程。 為了加速雙方客戶達到設(shè)計收斂的能力，臺積電與明導(dǎo)國際合作，擴展Calibre YieldEnhancer ECO填充流程從20奈米一直到最新的7奈米技術(shù)。 ECO填充流程能讓客戶快速管理最后階段的設(shè)計變更，并確保變更仍能符合臺積電的制造需求。

AFS平臺，包括AFS Mega電路仿真器，已通過臺積電7奈米V1．0制程認證。 全球領(lǐng)先半導(dǎo)體業(yè)者的模擬、混合訊號與RF設(shè)計團隊都將獲益于采用AFS平臺，以有效地驗證使用臺積電的最新技術(shù)所設(shè)計的芯片。

明導(dǎo)的Nitro－SoC P＆R平臺已進一步增強，可滿足臺積電7奈米設(shè)計實現(xiàn)與認證的所有需求。 明導(dǎo)還展現(xiàn)了其7奈米技術(shù)的成熟度，透過利用Nitro－SoC P＆R平臺成功地建置了ARM處理器，現(xiàn)已可供客戶使用。