《電子技術(shù)應(yīng)用》
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要超車臺(tái)積電 三星采用 EUV 技術(shù) 7 納米制程完成驗(yàn)證

2018-06-20
關(guān)鍵詞: 臺(tái)積電 三星 制程 晶圓

  在晶圓代工市場(chǎng)中,臺(tái)積電三星的競(jìng)爭(zhēng)始終是大家所關(guān)心的戲碼。其中,三星雖然有高通這樣的VIP 客戶,但在 7 納米制程節(jié)點(diǎn)上,高通預(yù)計(jì)會(huì)轉(zhuǎn)投回臺(tái)積電的情況下,三星要想受到更多的客戶的青睞,只能從工藝技術(shù)上著手了。

  這也是三星為什么跳過(guò)非 EUV 技術(shù)的 7 納米制程,直接上 7 納米 LPP EUV 制程技術(shù)的原因。如今,三星終于公布了他的 7 納米 LPP 制程已經(jīng)完成了新斯科技(Synopsys)的物理認(rèn)證,意味著 7 納米 EUV 制程將可以進(jìn)行全球量產(chǎn)了。

  事實(shí)上,目前在全球的前幾大晶圓代工廠商中,英特爾的10 納米制程還沒(méi)搞定,因此距離 7 納米制程就更遙遠(yuǎn)了。而臺(tái)積電的 7 納米制程量產(chǎn)比較順利,會(huì)有蘋果、海思、高通、NVIDIA、AMD 等客戶陸續(xù)流片、量產(chǎn)。不過(guò),臺(tái)積電的第一代 7 納米制程,使用的還是傳統(tǒng)的多重曝光技術(shù),一直必須到 2019 年得第 2 代 7 納米制程才會(huì)使用 EUV 光刻技術(shù)。

  格羅方德方面也走臺(tái)積電相似的路線,預(yù)計(jì)2018 年量產(chǎn)的 7 納米 DUV 制程還是傳統(tǒng)的深紫外光刻技術(shù)。對(duì)此,號(hào)稱頻率可達(dá) 5GHz 的 AMD 7 納米 Zen 2處理器就會(huì)使用格羅方德的 7 納米制程技術(shù),2019 年初問(wèn)世,2020年 的再下一代才是 7 納米 EUV 制程技術(shù)。

  相對(duì)于其他競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手,三星在EUV 技術(shù)上是最積極的。也就是三星直接跳過(guò)了第一代非 EUV 光刻的 7 納米制程,直接使用加入 EUV 技術(shù)的 7 納米 LPP 制程,并且預(yù)定在 2018 年下半年正式量產(chǎn)。日前,新斯科技與三星已經(jīng)聯(lián)合宣布,三星使用的 7 納米 LPP 制程技術(shù)完成了 IC 驗(yàn)證器的認(rèn)證工作了。

  在三星完成這次的認(rèn)證之后,三星的7 納米 LPP 制程就可以立即提供認(rèn)證的技術(shù)資料,包括 DRC 設(shè)計(jì)規(guī)則檢查、LVS 布局與原理圖、金屬填充技術(shù)檔等等給予相關(guān)客戶,而這也意味著三星的 7 納米 LPP 制程正式進(jìn)入可以量產(chǎn)的階段。

  目前在EUV 光刻技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)激烈下,各家大廠搶 EUV 光刻機(jī)也成為重要經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目之一。根據(jù)之前的消息,ASML 的 EUV 光刻機(jī)中,臺(tái)積電訂購(gòu)了大約 10 臺(tái),三星訂購(gòu)了大約 6 臺(tái),英特爾訂購(gòu)了 3 臺(tái),而格羅方德的EUV訂單數(shù)量不詳,中芯國(guó)際也訂購(gòu)了 1 臺(tái) EUV 光刻機(jī),將用于 7 納米制程技術(shù)研究上,預(yù)計(jì) 2019 年初交貨。而就在各家廠商手中都握有 EUV 光刻機(jī)的情況下,似乎未來(lái)在7納米節(jié)點(diǎn)上要?jiǎng)俪觯捅仨殞?duì)比大家的最后的技術(shù)與管理能力了。


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