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三星5nm芯片生產線開建:基于EUV極紫外光刻技術

2020-05-22
來源:21IC中國電子網
關鍵詞: 三星 5nm芯片 EUV

  據國外媒體報道,三星電子新的基于極紫外光刻(EUV)技術的5nm芯片生產線,已經開始建設,投資高達81億美元,計劃在明年下半年投入運營。

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  從外媒的報道,三星是在周四宣布這一生產線已開始建設的,生產線位于韓國京畿道平澤的三星園區(qū),是在本月開始建設的,計劃明年全部建成。

  外媒的報道還顯示,三星的這一新的5nm芯片生產線,計劃投資10萬億韓元,也就是約81億美元,建成之后很快就會投入運營,三星是計劃在明年下半年就投入運營。

  采用極紫外光刻技術,芯片代工商就能順利生產5nm及更先進工藝的芯片,三星基于極紫外光刻技術的7nm工藝,在去年已開始量產,三星在去年也首次宣布他們順利研發(fā)出了基于極紫外光刻技術的5nm工藝。

  三星已開始建設的這一條5nm EUV生產線,建成后將生產用于5G、高性能計算機及人工智能領域的芯片。這一條生產線建成之后,三星在韓國和美國的芯片代工生產線,就將增至7條。

  21IC注意到,在5nm生產能力上,臺積電走在了前面,據摩根大通發(fā)布的最新調研報告顯示,臺積電確定已拿到了今年蘋果iPhone 12處理器的代工訂單,將為蘋果供應5nm制程工藝的處理器。不過據之前報道顯示,受此次疫情影響,臺積電5nm芯片量產時間將延遲1-2個季度。


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