據(jù)企查查工商信息顯示，近日，華為旗下的哈勃科技投資有限公司已經(jīng)入股了北京科益虹源光電技術(shù)公司?？埔婧缭吹拿蛛m然并不為產(chǎn)業(yè)外的人所熟悉，但其主要業(yè)務(wù)卻涉及光刻機(jī)的核心技術(shù)，這意味著華為開(kāi)始正式布局光刻機(jī)領(lǐng)域。

　　具體而言，北京科益虹源光電技術(shù)公司的注冊(cè)資金由12000萬(wàn)元提升至20160 萬(wàn)元，增幅達(dá)68%。其中，哈勃投資持股4.7619%，成為第七大股東。

　　隱秘而偉大

　　近年來(lái)，在美方的持續(xù)打壓下，國(guó)內(nèi)“缺芯少魂”的困境愈演愈烈，對(duì)以華為為代表的民族企業(yè)造成的巨大影響有目共睹。幸而，在操作系統(tǒng)領(lǐng)域，華為發(fā)布了面向全智慧場(chǎng)景的HarmonyOS，致力于打造萬(wàn)物互聯(lián)的“通用系統(tǒng)”；在芯片領(lǐng)域，華為海思擁有國(guó)內(nèi)頂尖的芯片設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)，但卻受限于國(guó)產(chǎn)芯片制造產(chǎn)業(yè)落后，華為手機(jī)業(yè)務(wù)嚴(yán)重受創(chuàng)。

　　過(guò)去兩年間，華為“步履維艱”，卻從未停止自救，并于2019年正式成立了哈勃科技投資有限公司，主要進(jìn)行投資服務(wù)。截止去年年底，哈勃科技先后投資了包括山東天岳、東微半導(dǎo)體、天科合達(dá)、思瑞浦、東芯半導(dǎo)體、思特威在內(nèi)的25家企業(yè)，覆蓋EDA、半導(dǎo)體材料、第三代半導(dǎo)體、半導(dǎo)體晶片級(jí)襯底、模擬芯片、光電芯片、CMOS圖像傳感器等各種領(lǐng)域，不難看出華為擺脫“卡脖子”的決心。

 哈勃科技投資有限公司對(duì)外投資企業(yè)（數(shù)據(jù)來(lái)源：企查查）

　　2021年，哈勃科技又先后投資了從事自主研發(fā)的電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化（EDA）軟件開(kāi)發(fā)的飛譜電子，致力于高端仿真技術(shù)自主研發(fā)和應(yīng)用的云道智造，為半導(dǎo)體、光伏和LED等高科技制造業(yè)提供整體解決方案的上揚(yáng)軟件，從事顯示驅(qū)動(dòng)芯片/電路板卡生產(chǎn)與銷(xiāo)售的云英谷科技。

　　值得一提的是，5月31日，哈勃科技發(fā)生工商變更，公司注冊(cè)資本由27億人民幣增加至30億人民幣，增幅約11.11%。另?yè)?jù)企查查信息顯示，哈勃科技目前對(duì)外投資企業(yè)已經(jīng)達(dá)到了38家，投資領(lǐng)域涵蓋模擬芯片、碳化硅材料、功率芯片、人工智能芯片、車(chē)載通訊芯片、連接器等，而最新入股的科益虹源無(wú)疑將進(jìn)一步補(bǔ)全哈勃投資的芯片生態(tài)產(chǎn)業(yè)鏈。

　　科益虹源的主要業(yè)務(wù)是光刻機(jī)中的三大核心技術(shù)之一的光源系統(tǒng)，是國(guó)內(nèi)第一、全球第三的193nm ArF準(zhǔn)分子激光器企業(yè)。科益虹源成立于2016年7月，由中國(guó)科學(xué)院光電院、中國(guó)科學(xué)院微電子研究所、北京亦莊國(guó)際投資有限公司、中科院國(guó)有資產(chǎn)經(jīng)營(yíng)有限公司共同投資創(chuàng)立，注冊(cè)資本12000萬(wàn)元人民幣。

　　2018年，科益虹源自主設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)的國(guó)內(nèi)首臺(tái)高能準(zhǔn)分子激光器出貨，打破了國(guó)外廠商的長(zhǎng)期壟斷，一舉成為國(guó)內(nèi)行業(yè)龍頭。然而，身披“國(guó)內(nèi)第一、全球第三”的光環(huán)，但科益虹源的名號(hào)卻并不為大眾熟知，很大一部分原因是其所在領(lǐng)域太過(guò)專(zhuān)業(yè)。此外，如若不是這次“芯片斷供”造成的嚴(yán)重影響，大部分國(guó)人恐怕無(wú)從知曉國(guó)產(chǎn)芯片制造工藝與國(guó)外技術(shù)的巨大差距，自然更是對(duì)光刻機(jī)知之甚少。

　　衡量科技研發(fā)與工業(yè)水平的標(biāo)桿

　　此前，華為創(chuàng)始人任正非曾提到，華為遇到的困難就是他們?cè)O(shè)計(jì)的先進(jìn)芯片，國(guó)內(nèi)的基礎(chǔ)工業(yè)還造不出來(lái)。眾所周知，先進(jìn)工藝是國(guó)產(chǎn)芯片最薄弱的環(huán)節(jié)之一，而在芯片制造的數(shù)百道工序之中，光刻直接定義晶體管尺寸，決定芯片精度，是最重要的步驟之一，其成本占整個(gè)芯片制造成本的30%，甚至有人將其稱(chēng)為“衡量科技研發(fā)與工業(yè)水平的標(biāo)桿”。

　　然而，光刻步驟所需的光刻機(jī)制造卻踩到了我們的痛處。在全球光刻機(jī)市場(chǎng)中，ASML的壟斷毋庸置疑，尼康、佳能等企業(yè)也瓜分了剩余市場(chǎng)份額。據(jù)最新消息顯示，ASML孔徑數(shù)值為0.55的EXE:5000光刻機(jī)的曝光系統(tǒng)已經(jīng)設(shè)計(jì)完成，可于2022年正式發(fā)貨，EXE:5000光刻機(jī)可用于量產(chǎn)2nm制程芯片，甚至是1nm及以下。

　　反觀國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)則處于較為落后的位置，目前上海微電子只能制造90nm的低端光刻機(jī)，與ASML公司制造的EUV高端光刻機(jī)和DUV中端光刻機(jī)相差甚遠(yuǎn)。面對(duì)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的現(xiàn)狀，北大教授林毅夫認(rèn)為，荷蘭ASML公司如果沒(méi)有把光刻機(jī)賣(mài)給國(guó)產(chǎn)企業(yè)，我國(guó)大約三年就可以全盤(pán)掌握這項(xiàng)技術(shù)，一旦國(guó)產(chǎn)企業(yè)掌握了這項(xiàng)技術(shù)，那么光刻機(jī)的制造成本就會(huì)低于國(guó)外企業(yè)，屆時(shí)荷蘭ASML只能黯然退場(chǎng)。

　　有不少網(wǎng)友認(rèn)為林毅夫教授過(guò)于樂(lè)觀，但筆者認(rèn)為其自信也不并非空穴來(lái)風(fēng)。雖然EUV光刻機(jī)是目前最先進(jìn)的技術(shù)，但已是“上代人”的DUV實(shí)際上才是晶圓制造的主力，無(wú)論是圖像傳感器、功率IC、MEMS、模擬IC，還是邏輯IC，背后都有其身影。而DUV與EUV最大的區(qū)別就是光源方面，EUV的光源波長(zhǎng)為13.5nm，最先進(jìn)DUV的光源波則是193nm，采用ArF光源。

　　值得一提的是，我國(guó)在DUV領(lǐng)域頻頻傳來(lái)好消息。前有科益虹源打破了193nm ArF激光器的外商壟斷，后有南大光電在193nm光刻膠技術(shù)上取得了突破性進(jìn)展。南大光電于近日發(fā)布公告稱(chēng)，其控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠繼2020年12月在一家存儲(chǔ)芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺(tái)上通過(guò)認(rèn)證后，近日又在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品上取得了認(rèn)證突破，表明公司光刻膠產(chǎn)品已具備55nm平臺(tái)后段金屬布線層的工藝要求。

　　光刻膠主要用于保護(hù)芯片內(nèi)置紋路，減少線路裸露外部遭到侵蝕。光刻膠涂抹在硅基芯片表面，在極紫外光線的投射下形成液體，有效投射面積以及清洗過(guò)程，直接決定到了最終芯片的成品率，光刻膠的涂抹均勻程度也直接決定著最終芯片的性能，目前最廣泛使用到的光刻膠為Krf以及Arf，主要用于芯片先進(jìn)的制程工藝當(dāng)中。

　　更重要的是，ArF光刻膠市場(chǎng)常年被美國(guó)、日本壟斷。今年5月，位于日本企業(yè)“信越化學(xué)”便以生產(chǎn)能力不足為由，宣布不再對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)出售KrF光刻膠。如今，在國(guó)內(nèi)EUV光刻技術(shù)尚不成熟之際，ArF仍是主流，所以我們?cè)?93nm ArF光刻技術(shù)上的種種突破意義非凡。

　　寫(xiě)在最后

　　最初，華為從海思做起，歷經(jīng)近十年，其手機(jī)芯片逐漸獲得了消費(fèi)者認(rèn)可，并走到了國(guó)際領(lǐng)先位置，而在華為5G技術(shù)名聲大噪之前，我國(guó)在全球通信領(lǐng)域也一直默默無(wú)聞。

　　面對(duì)壟斷與制裁，華為及國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體行業(yè)遭遇的不僅是挑戰(zhàn)，更是前所未有的機(jī)遇。雖然半導(dǎo)體行業(yè)國(guó)產(chǎn)替代道阻且長(zhǎng)，但我國(guó)在科研技術(shù)、工業(yè)制造、人才儲(chǔ)備等方面早已今非昔比，重重重壓之下、頂著一輪接一輪的技術(shù)封鎖，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)技術(shù)已經(jīng)取得長(zhǎng)足的進(jìn)步，相信自主可控已經(jīng)絕非空談！