眾所周知，目前全球最牛的光刻機廠商就是荷蘭的ASML了，全世界僅有它一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機，而EUV光刻機是10nm以下芯片制造中必不可少的設(shè)備。

可以說ASML緊緊的扼住了全球芯片制造企業(yè)的喉嚨，只要它不賣EUV光刻機給對方，對方的工藝就只能停留在10nm以上。

事實上，在20年前，ASML其實是一家名不見真?zhèn)鞯男∑髽I(yè)，和日本的尼康、佳能比起來，真的就是個小作坊，那么為何最終是它勝出，一家獨大，然后讓尼康、佳能變成了二流光刻機企業(yè)了呢？

事實上，這與ASML成長過程中的兩個轉(zhuǎn)折點有關(guān)，也正是抓住了這機會，在這兩次轉(zhuǎn)折點中，都站對了位置，才有今天的ASML。

第一次是2004年左右，當時業(yè)界采用的光刻機光源是193nm波長的，采用的是干刻法，接下來要提升光源到157nm波長，這樣精度更高，但困難非常大。

這時候臺積電表示，光源還可以使用193nm波長的，但換個介質(zhì)試試，不要用空氣當介質(zhì)了，用水當介質(zhì)，而光源在通過水時，會產(chǎn)生折射，這樣193nm波長的光源，實際效果可能比157nm的波長還要好呢？

尼康、佳能認為這不實際，不如研究157nm光刻機好了，而ASML覺得自己反正就是小企業(yè)，不如陪臺積電試一下，萬一成功了呢？

于是ASML成功了，采用水當介質(zhì)的浸潤式光刻機火了，成功的把精度再提高了，且成本低，研發(fā)快，僅僅5年時間，ASML就拿下了全球一半多的市場，后來尼康、佳能想要跟進，已經(jīng)遲了。

第二次機會是2015年，當時浸潤式光刻機已經(jīng)發(fā)展到極限了，接下來研究的方向采用波長為13．5nm的極紫外線，制造EUV光刻機。

并且這時候，英特爾牽頭搞了一個前沿組織EUV LLC，就是研究這些的，于是ASML加入了進來，并且ASML很聰明，覺得如果自己搞出這樣的光刻機，可能會被美國忌憚，于是讓出了自己的股份，讓英特爾、臺積電、三星等都成為自己的股東。

這樣不僅打消了美國的在顧慮，還贏得了客戶、盟友，也得到了眾多的技術(shù)支持，于是順利的推出了EUV系列光刻機，還不愁賣，也不怕美國制裁它，如今ASML是真的在EUV光刻機上一家獨大，真正的壟斷市場了。