本文來(lái)自方正證券研究所2022年4月05日發(fā)布的報(bào)告《半導(dǎo)體周期處于什么階段?還缺芯嗎?》,欲了解具體內(nèi)容,請(qǐng)閱讀報(bào)告原文,陳杭S1220519110008
國(guó)產(chǎn)替代帶來(lái)的半導(dǎo)體成長(zhǎng)還處于早期階段,國(guó)產(chǎn)板塊的空間巨大!
半導(dǎo)體的研究框架分為兩個(gè)階段:2018年之前,和2018年之后。
2018年之前,全球包括中國(guó)大陸都遵循一個(gè)半導(dǎo)體研究框架:基于供需的庫(kù)存周期與創(chuàng)新周期的雙波疊加模型。 2018年之后,中國(guó)大陸半導(dǎo)體研究的底層邏輯已經(jīng)發(fā)生重大變化,已經(jīng)脫離了全球傳統(tǒng)框架,決定國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的主要矛盾已經(jīng)從供需變成了國(guó)產(chǎn)替代。
為此我們提出了半導(dǎo)體研究的三波疊加:
1、短期看:價(jià)格周期,又稱為庫(kù)存周期,由供給主導(dǎo),一般為2年左右
2、中期看:創(chuàng)新周期,一般由3~5年的底層創(chuàng)新驅(qū)動(dòng),比如4G、5G、智能手機(jī)、智能電車
3、長(zhǎng)期看:國(guó)產(chǎn)替代,這是中國(guó)半導(dǎo)體公司的最主要矛盾和未來(lái)增長(zhǎng)的核心驅(qū)動(dòng)力,預(yù)計(jì)將維持10年左右。
結(jié)論是:
一、按照庫(kù)存周期律:由于臺(tái)積電/三星/Intel都在先進(jìn)工藝14/7/5在最近兩年投入巨額capex,而以大陸為主的晶圓廠主要擴(kuò)產(chǎn)在成熟工藝,所以根據(jù)供需的匹配關(guān)系,后續(xù)芯片庫(kù)存將陸續(xù)出現(xiàn)三個(gè)拐點(diǎn):
1)先進(jìn)工藝12寸的芯片(14/7/5nm),將在2022年上半年逐步出現(xiàn)緩解,原因是全球巨額CAPEX+手機(jī)/電腦需求疲軟。
2)成熟工藝12寸的芯片(28/45/65nm),將在2022年下半年逐步出現(xiàn)緩解,但是跟智能電車相關(guān)需求的拐點(diǎn)會(huì)晚半年~1年。
3)成熟工藝8寸的芯片(130/90/mos/IGBT/SiC),將在2023年逐步出現(xiàn)緩解,因?yàn)槟茉锤锩男枨筮€處于早期,產(chǎn)能擴(kuò)充進(jìn)度因?yàn)樵O(shè)備交期延期而延后。
二、按照創(chuàng)新周期律:2008年~2018年十年的智能手機(jī)大周期又分成了3/4G大周期和5G小周期等多個(gè)創(chuàng)新周期疊加,目前創(chuàng)新已經(jīng)由手機(jī)轉(zhuǎn)移到電車為抓手的能源革命,又分為兩個(gè)階段:油車電動(dòng)化+電車智能化。
1、電動(dòng)化:電動(dòng)化最大的增量是電控,電控中最大壁壘和成本來(lái)自于功率半導(dǎo)體。
1)傳統(tǒng)硅基:IGBT和傳統(tǒng)MOS,將持續(xù)在中低壓和傳統(tǒng)場(chǎng)景占據(jù)主導(dǎo)地位。由于缺芯疊加行業(yè)景氣度加速,新能源相關(guān)的IGBT和MOSFET將迎來(lái)機(jī)遇期。
2)碳化硅:SiC將在高壓平臺(tái)和高端應(yīng)用場(chǎng)景發(fā)力。外延、襯底、制造、設(shè)備、IDM領(lǐng)域都將迎來(lái)行業(yè)景氣+國(guó)產(chǎn)替代+份額提升的三重推動(dòng)。
2、智能化:
1)傳統(tǒng)座艙:本質(zhì)是手機(jī)的衍生,是非實(shí)時(shí)操作系統(tǒng)在三屏合一趨勢(shì)下的場(chǎng)景擴(kuò)張,傳統(tǒng)SoC廠商將繼續(xù)主導(dǎo)座艙市場(chǎng),目前主要玩家還是集中于海外巨頭。
2)智能駕駛:本質(zhì)上全新的異質(zhì)計(jì)算架構(gòu),實(shí)時(shí)操作系統(tǒng)將結(jié)合FPGA+GPU+ASIC+CPU異構(gòu)芯片,共同實(shí)現(xiàn)無(wú)人駕駛,目前對(duì)半導(dǎo)體供需影響還處于早期階段。
三、按照國(guó)產(chǎn)替代:2020年~2030年是我國(guó)又一次大級(jí)別的產(chǎn)業(yè)升級(jí),從傳統(tǒng)的OEM/拼裝/貼牌,到核心半導(dǎo)體元器件的產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移,2018年之后的科技封鎖加速了這個(gè)過(guò)程,國(guó)產(chǎn)化逐步深化,分為四個(gè)階段:
1)國(guó)產(chǎn)1.0:2019年5月,限制華為終端的上游芯片供應(yīng),目的是卡住芯片下游成品,直接刺激了對(duì)國(guó)產(chǎn)模擬芯片、國(guó)產(chǎn)射頻芯片、國(guó)產(chǎn)存儲(chǔ)芯片、國(guó)產(chǎn)CMOS芯片的傾斜采購(gòu),這是第一步。
2)國(guó)產(chǎn)2.0:2020年9月,限制海思設(shè)計(jì)的上游晶圓代工鏈,目的是卡住芯片中游代工。由于全球晶圓廠都嚴(yán)重依賴美國(guó)的半導(dǎo)體設(shè)備(PVD、刻蝕機(jī)、離子注入機(jī)、測(cè)試機(jī)等),海思只能轉(zhuǎn)移到備胎代工鏈,直接帶動(dòng)了中芯國(guó)際等國(guó)產(chǎn)晶圓廠和封測(cè)廠的加速發(fā)展。
3)國(guó)產(chǎn)3.0:2020年12月,中芯國(guó)際進(jìn)入實(shí)體名單,限制的是芯片上游半導(dǎo)體供應(yīng)鏈,本質(zhì)是卡住芯片上游設(shè)備。想要實(shí)現(xiàn)供應(yīng)鏈安全,必須做到對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備和半導(dǎo)體材料的逐步突破,由于DUV不受美國(guó)管轄,此階段的關(guān)鍵是針對(duì)刻蝕等美系技術(shù)的替代。
4)國(guó)產(chǎn)4.0:零部件、原材料、EDA/IP,面對(duì)繼續(xù)的科技封鎖,在半導(dǎo)體前道核心工藝設(shè)備/材料的自給化加強(qiáng)的基礎(chǔ)上,會(huì)衍生到設(shè)備上游零部件和材料上游原材料。
半導(dǎo)體設(shè)備:將在2022年實(shí)現(xiàn)1-10的放量,優(yōu)先關(guān)注成熟工藝國(guó)產(chǎn)化設(shè)備(130/90/65/40/28nm)。
芯片材料:將在設(shè)備后,接力進(jìn)行0-1的突破,優(yōu)先推薦黃光區(qū)材料和具備材料上游制備能力的相關(guān)公司。
EDA/IP:將登陸資本市場(chǎng),成為底層硬科技的全新品類。
設(shè)備零部件:國(guó)產(chǎn)化的縱向推進(jìn)使得產(chǎn)業(yè)地位凸顯,板塊將迎來(lái)歷史級(jí)的發(fā)展窗口。
建議聚焦以國(guó)產(chǎn)化為核心的半導(dǎo)體細(xì)分板塊:半導(dǎo)體設(shè)備、半導(dǎo)體材料和原料、設(shè)備零部件、EDA/IP、車規(guī)級(jí)芯片、FPGA、CPU/GPU等。
風(fēng)險(xiǎn)提示:1、國(guó)產(chǎn)晶圓廠進(jìn)度低于預(yù)期;2、下游需求低于預(yù)期;3、國(guó)產(chǎn)化上游進(jìn)度低于預(yù)期。