5月24日消息，日前上海新陽在業(yè)績說明會上表示，公司光刻膠ArF、ArF－i研發(fā)進(jìn)展順利，已經(jīng)形成兩個(gè)系列試驗(yàn)產(chǎn)品，樣品已經(jīng)進(jìn)入客戶端進(jìn)行測試。由于測試耗時(shí)比較長，近期不會有銷售的發(fā)生，但是產(chǎn)品總體技術(shù)的指標(biāo)還都比較不錯(cuò)，我們現(xiàn)在對這方面也比較有信心。

此外，公司2021年完成了幾款KrF光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)、驗(yàn)證并實(shí)現(xiàn)銷售，在手訂單中含有國內(nèi)主流頭部芯片制造公司等大小客戶，覆蓋鋁線制程和銅線制程，用于邏輯、模擬等芯片的生產(chǎn)制造。由于客戶對于光刻膠的使用都會比較謹(jǐn)慎，目前還都是小批量使用，所以今年的銷售額可能不會很大，但明年用量可能會增加較多，后續(xù)增長空間較大。

眾所周知，光刻膠是芯片關(guān)鍵材料中的重點(diǎn)所在，光刻膠是光刻成像的承載介質(zhì)，其作用是利用光化學(xué)反應(yīng)的原理將光刻系統(tǒng)中經(jīng)過衍射、濾波后的光信息轉(zhuǎn)化為化學(xué)能量，進(jìn)而完成掩模圖形的復(fù)制。

光刻膠一般由聚合物骨架、光致酸產(chǎn)生劑或光敏化合物、溶劑，以及顯影保護(hù)基團(tuán)、刻蝕保護(hù)基團(tuán)等其他輔助成分組成。光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進(jìn)了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用。

一直以來，光刻膠都是芯片關(guān)鍵材料中的重點(diǎn)所在，由于國內(nèi)光刻膠領(lǐng)域起步較晚，技術(shù)嚴(yán)重落后等原因，導(dǎo)致我國半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域的光刻膠需求主要由外資企業(yè)來滿足，日美廠商占據(jù)了約87％的份額，國內(nèi)光刻膠產(chǎn)品進(jìn)口比例高達(dá)九成。

如今上海新陽的KrF光刻膠產(chǎn)品成功打入國內(nèi)主流芯片公司，意味著國內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)再獲得重大突破，實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代指日可待。