外媒報道指美國芯片企業(yè)美光已量產(chǎn)無需EUV光刻機的1β（1－beta）制造工藝，主要是因為ASML的EUV光刻機實在太昂貴了，它希望繞開EUV光刻機來降低生產(chǎn)成本，這對ASML來說無疑是又一個重大打擊。

業(yè)界都清楚光刻機非常昂貴，第一代EUV光刻機售價達(dá)到1．2億美元，第二代EUV光刻機更將達(dá)到4億美元，昂貴的EUV光刻機讓芯片制造企業(yè)難以承受，但是為了推進先進工藝，它們還是無奈接受。

不過在諸多芯片制造企業(yè)當(dāng)中也有另類，日本的存儲芯片企業(yè)鎧俠就開辟了無需光刻機的芯片制造工藝NIL，據(jù)悉鎧俠早已將NIL工藝投入生產(chǎn)，大幅降低了成本，如今NIL工藝已達(dá)到10nm以下，預(yù)計可以應(yīng)用于5nm工藝生產(chǎn)。

日本成功開發(fā)無需光刻機的NIL工藝給全球芯片行業(yè)帶來啟發(fā)，不過美光研發(fā)的1β（1－beta）制造工藝仍然需要ASML的DUV光刻機，只是繞開了價格昂貴的EUV光刻機，據(jù)悉美光的1β（1－beta）制造工藝可以提高能效15％，存儲密度則提升35％以上，達(dá)到世界領(lǐng)先水平。

隨著美光研發(fā)出繞開EUV光刻機的芯片制造工藝，未來或許幾家存儲芯片企業(yè)三星、SK海力士等也會跟進，畢竟如今存儲芯片價格大跌，降低成本成為存儲芯片企業(yè)生存的關(guān)鍵，如果三星和SK海力士不跟進，那么它們將可能因為成本問題而落后于美光。

EUV光刻機是ASML賴以自豪的先進技術(shù)，全球僅有ASML能生產(chǎn)EUV光刻機，日本兩家光刻機企業(yè)佳能、尼康只能生產(chǎn)DUV光刻機，然而ASML如今卻已面臨EUV光刻機難賣的局面。

臺積電已關(guān)閉4臺EUV光刻機，目前還面臨著先進工藝產(chǎn)能過剩，為此以要求員工休無薪假期；Intel則已完成Intel 4工廠建設(shè)；三星的3nm工藝投產(chǎn)后面臨無客戶的問題，這三家購買EUV光刻機的大客戶都不可能繼續(xù)采購，如今美國芯片企業(yè)美光又宣布繞開EUV光刻機，那么ASML的EUV光刻機還能賣給誰？

ASML或許該考慮中國芯片客戶了，由于眾所周知的原因，ASML無法對中國出售EUV光刻機，然而如今環(huán)境下，中國大陸以外的芯片制造企業(yè)都已不可能采購EUV光刻機，而ASML本來還計劃倍增EUV光刻機產(chǎn)能，那么它如果還不能對中國出售EUV光刻機，這些EUV光刻機就會成為庫存。

全球芯片行業(yè)的衰退也給ASML帶來壓力，過去兩年全球大舉擴張芯片制造產(chǎn)能，ASML由此獲得厚利，然而今年下半年以來全球芯片行業(yè)步入下行階段，芯片制造企業(yè)不僅不會擴張產(chǎn)能，還在收縮產(chǎn)能，而中國大陸則為了推進芯片自給率繼續(xù)推進產(chǎn)能擴張，可以說中國芯片已是ASML的救命稻草。

這個時候ASML就不得不考慮自己的生存問題了，如今的ASML確實處于輝煌頂峰，然而2005年之前它可是為生存而發(fā)愁，它也不想再回到那種吃了上頓沒下頓的日子吧，面對中國芯片市場這個大蛋糕，它需要考慮下如何打破限制而對中國出售EUV光刻機的問題了。

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