6 月 27 日消息，ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 在接受《日經(jīng)亞洲》采訪時表示，該企業(yè)已同光學(xué)組件獨家合作伙伴蔡司一道啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。
作為參考，目前的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系統(tǒng)采用 High NA (0.55NA) 光學(xué)系統(tǒng)，分辨率為 8nm。更高的分辨率意味著先進制程企業(yè)可減少曝光次數(shù)、提升光刻圖案質(zhì)量。
Jos Benschop 提到，ASML 尚未設(shè)定 Hyper NA 光刻機推出的目標(biāo)日期，不過項目開發(fā)目標(biāo)是將 NA（注：數(shù)值孔徑）進一步提升到 0.7 乃至更高；5nm 的分辨率意味著 Hyper NA 系統(tǒng)能滿足 2035 年乃至更后階段的產(chǎn)業(yè)需求。
對于近來才啟動部署的 High NA 圖案化設(shè)備，這位 ASML 高管稱這些機臺的廣泛使用要晚一些，這是因為行業(yè)需要測試、驗證并建立相應(yīng)的生態(tài)系統(tǒng)；0.55NA 光刻機預(yù)計可滿足本十年內(nèi)乃至到三十年代初的行業(yè)需求。
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