4 月 29 日消息，據(jù)三星官方新聞稿，三星電子會(huì)長(zhǎng)李在镕于當(dāng)?shù)貢r(shí)間 26 日訪問蔡司位于德國(guó)奧伯科亨的總部，并于蔡司 CEO 卡爾?蘭普雷希特等就加強(qiáng)兩家公司的合作進(jìn)行了討論。

▲ 李在镕（中）、蘭普雷希特（左）與蔡司半導(dǎo)體制造技術(shù)部門 CEO 安德烈亞斯?佩歇爾（右）在蔡司總部外合影留念。圖源三星新聞稿，下同

蔡司是 ASML EUV 光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)的獨(dú)家供應(yīng)商，每臺(tái) EUV 光刻機(jī)中包含了三萬多個(gè)由蔡司提供的組件，蔡司還在 EUV 光刻技術(shù)領(lǐng)域擁有 2000 多項(xiàng)關(guān)鍵專利。

多位負(fù)責(zé)半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)的三星電子高管也陪同李在镕進(jìn)行了此次訪問，包括 DS 部門 CTO 的宋在赫和 DS 部門的制造與技術(shù)總裁南錫宇等。

三星和蔡司管理層就雙方公司半導(dǎo)體技術(shù)主要趨勢(shì)和中長(zhǎng)期技術(shù)路線圖進(jìn)行了交流。

未來，三星電子和蔡司將進(jìn)一步擴(kuò)大雙方在 EUV 技術(shù)和先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備相關(guān)領(lǐng)域的合作。

合作的深化有望在三星未來的半導(dǎo)體產(chǎn)品上實(shí)現(xiàn)性能增強(qiáng)、流程優(yōu)化、產(chǎn)能提升的成果，最終提升三星半導(dǎo)體代工和存儲(chǔ)器業(yè)務(wù)的競(jìng)爭(zhēng)力。

蔡司還計(jì)劃到 2026 年投資 480 億韓元（IT之家備注：當(dāng)前約 2.53 億元人民幣）在韓國(guó)建設(shè)研發(fā)中心，加強(qiáng)同三星等韓企的戰(zhàn)略合作。

▲ 李在镕（左二）、蘭普雷希特（右二）、佩歇爾（左一）在蔡司大型設(shè)備前合影留念

新聞稿中還提到，三星電子計(jì)劃于年內(nèi)實(shí)現(xiàn) 1cnm（第六代 10nm 級(jí)）內(nèi)存的量產(chǎn)，并正積極推廣 NPU 業(yè)務(wù)。