《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁 > EDA與制造 > 業(yè)界動態(tài) > 真空技術(shù)賦能微觀材料科技,推動諸多領(lǐng)域發(fā)展未來可期

真空技術(shù)賦能微觀材料科技,推動諸多領(lǐng)域發(fā)展未來可期

2023-05-10
來源:普發(fā)真空
  • 生活質(zhì)量在提高,生產(chǎn)工藝在提高

  • 廈門韞茂是這樣的公司,在幾大領(lǐng)域有著突出的貢獻(xiàn)

  • 要實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量發(fā)展,設(shè)備中需要真空,普發(fā)真空提供了幫助

  • 通過我們的產(chǎn)品組合和know-how幫助這樣的企業(yè)一同進(jìn)步,實(shí)現(xiàn)成長是我們最大的優(yōu)勢

  隨著新材料的應(yīng)用和科技的進(jìn)步,我們的生活也正在發(fā)生翻天覆地的變化,從居家辦公到日常出行,隨著技術(shù)的不斷突破和創(chuàng)新,也給我們的生活質(zhì)量帶來了很大的提升。燃油車被越來越多的電動汽車所取代,推動著交通出行以更加可持續(xù)的方式發(fā)展;隨處可見的顯示器,也一次次突破極限,展示更清晰、精準(zhǔn)和高質(zhì)量的畫面。還有很多新材料的應(yīng)用也正在從實(shí)驗(yàn)室級別的研發(fā)走向產(chǎn)業(yè)化和規(guī)?;牡缆?。這些技術(shù)的應(yīng)用都離不開真空技術(shù)。

  現(xiàn)如今真空鍍膜技術(shù)在新材料應(yīng)用領(lǐng)域的使用非常廣泛,通過對現(xiàn)有材料表面的真空鍍膜而改變其材料的極限,從而在不增加太多成本的情況下大大的提高了材料原有的極限能力,讓生產(chǎn)出來的產(chǎn)品在體積、質(zhì)量和成本沒有發(fā)生太多變化的同時(shí),性能得到了質(zhì)的飛躍。原子層沉積技術(shù)(Atomic Layer Deposition, ALD),就是這一技術(shù)最常見的應(yīng)用之一,是先進(jìn)的納米表面處理技術(shù)。通過ALD工藝,可以在單原子范圍內(nèi)沉積涂層,因此可以在納米尺度上進(jìn)行控制。原子層沉積設(shè)備已在新能源動力電池正極材料的包覆,半導(dǎo)體集成電路產(chǎn)業(yè),微機(jī)電系統(tǒng)和其他納米技術(shù)應(yīng)用提供了廣闊的應(yīng)用平臺。

  MICRO-LED提升了顯示技術(shù)

  從顯像管到LED,顯示的精度和由此帶來的視覺感官享受不斷提升。進(jìn)入LED時(shí)代后,產(chǎn)品技術(shù)也在不斷更新迭代。而在已知的技術(shù)當(dāng)中,Micro-LED被譽(yù)為是“終極的顯示技術(shù)”,其所占體積更小、混光距離更短、亮度和對比度更高、功耗更低、壽命更長。Micro-LED是將LED結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)進(jìn)行薄膜化、微小化、陣列化,常需要用到濺射工藝來生成薄膜結(jié)構(gòu),而后在此基礎(chǔ)上進(jìn)行后續(xù)加工。

  在更多的高精尖領(lǐng)域,是超高真空設(shè)備的用武之地,渦輪分子泵則在其中起到了關(guān)鍵作用。例如科研超導(dǎo)應(yīng)用當(dāng)中,常需要納米級的覆膜來輔助構(gòu)成科研項(xiàng)目所需的各種模型結(jié)構(gòu)。

  廈門韞茂就是這樣一家創(chuàng)新型高端納米裝備制造技術(shù)企業(yè)。專注于研發(fā)及生產(chǎn)UHV超高真空鍍膜裝備,ALD原子層成膜系統(tǒng)、PVD、IBE離子束刻蝕系統(tǒng)等一系列微納加工設(shè)備。韞茂專注于新材料的包覆和量產(chǎn),滿足客戶定制化的要求,同時(shí)不斷探索先進(jìn)工藝和自有知識產(chǎn)權(quán),成為了這一領(lǐng)域的小巨人企業(yè)。

  在ALD設(shè)備,Micro-LED連續(xù)線和超高真空鍍膜設(shè)備的生產(chǎn)中,普發(fā)真空作為韞茂的合作伙伴,憑借著豐富的真空專業(yè)知識的積累和廣闊的產(chǎn)品組合,助力廈門韞茂實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量穩(wěn)定的真空環(huán)境。

  粉末ALD設(shè)備

  應(yīng)用領(lǐng)域:鋰電池粉末或極片,金屬粉末,熒光粉粉末等粉體包覆。

  目前已有設(shè)備:GM系列百克級粉末ALD系統(tǒng)、KG系列公斤級粉末ALD系統(tǒng),即將推出噸級粉末ALD系統(tǒng)

57.JPG

  如圖:GM克級粉末ALD系統(tǒng)

  Cbatch系列ALD

  連續(xù)通過式多腔體結(jié)構(gòu),全自動化傳輸,主要用于大批量生產(chǎn),現(xiàn)已用于LED行業(yè)。

58.JPG

  超高真空設(shè)備

  產(chǎn)品:QBT-J(四腔電子束蒸發(fā)系統(tǒng))\QBT-P(兩腔濺射系統(tǒng))\QBT-4(兩腔熱蒸發(fā)系統(tǒng))\QBT-A(等離子體增強(qiáng)ALD系統(tǒng))

59.JPG

  如圖:QBT-J全自動四腔超高真空雙傾角鍍膜系統(tǒng)

60.JPG

  如圖:普發(fā)真空HiPace 2300渦輪分子泵用于超高真空系統(tǒng)

  普發(fā)真空提供一站式真空解決方案,助力廈門韞茂實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品功能

61.JPG

  HiScroll渦旋泵

  靜音、高效、無油

62.JPG

  A4系列整體式干泵

  高能效,溫度控制范圍廣,耐腐蝕材料工藝泵,智能監(jiān)控系統(tǒng)

63.JPG

  HiPace系列渦輪分子泵

  高壓縮比,抽速高,安全穩(wěn)定,體積小巧

64.JPG

  PKR 361全量程真空計(jì)

  測量范圍廣,極低的外部磁場,試用范圍廣

  韞茂科技總經(jīng)理趙茂生先生表示道:“材料科技的進(jìn)步推動著科研、創(chuàng)新和生產(chǎn)。面對日益提升的性能需求,微觀層面的技術(shù)顯得愈發(fā)重要,甚至有可能幫助突破傳統(tǒng)技術(shù)的瓶頸。真空技術(shù)所保障的純凈環(huán)境對微觀精密做業(yè)是不可或缺的。我們很高興能與普發(fā)真空保持合作,以其先進(jìn)豐富的真空設(shè)備來幫助我們的產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)更加優(yōu)異的性能,進(jìn)而為更多科研機(jī)構(gòu)和院校,以及下游產(chǎn)業(yè)等單位服務(wù),助其攻克更多高精尖技術(shù),提升產(chǎn)品性能,惠及更多用戶。我們更期待藉此實(shí)現(xiàn)革命性的突破,最終造福全人類。希望普發(fā)真空能為我們帶來更多優(yōu)秀的產(chǎn)品和技術(shù),與我們攜手前行。”



 更多精彩內(nèi)容歡迎點(diǎn)擊==>>電子技術(shù)應(yīng)用-AET<< 

mmexport1621241704608.jpg

本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn)。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題,請及時(shí)通過電子郵件或電話通知我們,以便迅速采取適當(dāng)措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。聯(lián)系電話:010-82306118;郵箱:aet@chinaaet.com。