出品丨自主可控新鮮事

　　本文內(nèi)容來源于一顆青木、365EDA電子論壇

　　近日，我國EUV光刻機研發(fā)取得重大突破。

　　近年來在西方技術(shù)封鎖下，先進半導體關(guān)鍵制造設(shè)備EUV光刻機被限制出口至中國大陸。而面對西方的不斷打壓，我國科研人員潛心研發(fā)，終于成功研制出EUV重要部件——光源工程化樣機，為我國突破“卡脖子”技術(shù)做出重大貢獻。

　　哈工大、長春光機所攻破EUV光刻機三大核心技術(shù)

　　EUV光刻機共有三大核心技術(shù)，分別為EUV光源系統(tǒng)，高精度弧形反射鏡系統(tǒng)、超高精度真空雙工件臺。

　　早在2015年，中國的長春光機所就已經(jīng)研發(fā)出了EUV光刻機的高精度弧形反射鏡系統(tǒng)，多層層鍍膜面形誤差小于0.1nm，達到了EUV級光刻機的標準。但這套系統(tǒng)有個小問題，并非所有零部件都是國產(chǎn)的，其中鍍膜裝置采購自海外。

　　2021年7月，中科院控股企業(yè)北京中科科美成功研發(fā)出鍍膜精度控制在0.1nm以內(nèi)的直線式勞埃透鏡鍍膜裝置及納米聚焦鏡鍍膜裝置，滿足了長春光機所對零部件的技術(shù)要求。

　　中科科美研發(fā)的鍍膜裝置送到長春光機所后，我國立刻制造出了EUV級光刻機級別的高精度弧形反射鏡系統(tǒng)。

　　這次純國產(chǎn)，每一個零部件都是國產(chǎn)。

　　至此EUV光刻機的三大核心技術(shù)被我國突破了一個，還剩兩個。

　　2022年12月7日，哈工大傳來喜訊，儀器學院胡鵬程教授團隊研發(fā)的“高速超精密激光干涉儀”，榮獲中國光學領(lǐng)域最高榮譽金隧獎，并在金獎名單里位列第一。

　　這一技術(shù)解決了該領(lǐng)域存在的測不準、測不精、測不快的核心難題，對于促進我國關(guān)鍵核心技術(shù)、突破“卡脖子”難題有著重大意義，是解決我國高端光刻機設(shè)備國產(chǎn)化的重要條件。

　　具體來說，高速超精密激光干涉儀的探測頭體積小，可以嵌入到試驗裝置或精密裝備中，在狹小的空間中進行測量任務(wù)，再加上它只需要單根光纖就可以連接探測頭和主機，更容易完成超精密的測量目標，可以對晶圓、物鏡系統(tǒng)、工作臺位置的超精準定位，從而為我國高端光刻機研發(fā)提供嵌入式在線測量手段，為納米計量測試提供核心儀器。

　　因為哈工大的貢獻，EUV級光刻機的三大核心技術(shù)的第二項，被我國成功突破。

　　還剩下的那最后一項是EUV光源系統(tǒng)，也是EUV光刻機的心臟部件。

　　沒有EUV級光源，哪怕其他光刻機部件中國全都造出來了也沒用。

　　2023年4月13日，長春光機所官網(wǎng)公布消息，中國科學院院士、中國科學院前院長白春禮在長春光機所參觀了EUV光源系統(tǒng)。

　　這是首次官方發(fā)文證實了我國已成功研發(fā)出EUV光源系統(tǒng)。

　　值得注意的是，在官網(wǎng)介紹的配圖里明確表示，白春禮院士參觀的是EUV光源樣機，也就是說長春光機所已經(jīng)完成了工程樣機的制造。

　　隨著一項項關(guān)鍵技術(shù)的攻克，我國距離芯片完全國產(chǎn)化的目標也越來越近。

　　對此，外媒的評價是“炸裂式技術(shù)突破”。

　　光刻機巨頭和美半導體協(xié)會：不能失去中國市場

　　隨著中國對EUV光刻機研發(fā)進度的不斷增長，ASML對中國的態(tài)度也在不斷變化。

　　美國剛啟動對華制裁時，ASML的一個工程師網(wǎng)上發(fā)文說就算給中國人圖紙他們也造不出光刻機，甚至還說：

　　先別提把極紫外光刻機EUV給造出來，就是把EUV給用好都是一件無比復雜的事情，臺積電算是我們的客戶，我很佩服臺積電的工程師或者說他們整個的體系。他們對光刻機的使用技巧達到了某種讓人欽佩的高度。

　　意思很明確，他認為中國人別說造出EUV光刻機，就連用好EUV光刻機都夠嗆。

　　2021年7月，中國造出了純國產(chǎn)的高精度弧形反射鏡系統(tǒng)并公示。

　　2022年1月，ASML總裁溫克寧在公開場合表示：

　　中國目前不太可能獨立掌握頂級光刻技術(shù)，因為阿斯麥依賴于"不懈的創(chuàng)新"，并整合了只有非中國供應商才能獲得的組件。

　　但同時他也說：

　　中國并非永遠無法掌握頂級光刻技術(shù)，因為我們所知道的物理定律，中國人也知道，他們一定會努力去掌握這項技術(shù)。永遠不要說得太絕對。他們肯定在嘗試?！?/p>

　　簡單的說，溫克寧認為中國的研發(fā)有點威脅，需要略加警惕，但威脅不大。

　　2022年下半年，哈工大成功研發(fā)真空用超高精度激光干涉儀，并公開獲獎。

　　2023年1月，ASML總裁溫克寧在公開場合表示：

　　美國帶頭的針對中國半導體行業(yè)的制裁措施，不僅不會給中國造成太大傷害，反而會倒逼中國人在高端芯片領(lǐng)域研究出自己的技術(shù)。

　　“中國的物理定律和全世界的都一樣，中國沒理由造不出光刻機”

　　3月9日，荷蘭政府首次表態(tài)，將以“國家安全”為由，宣布將對包括“最先進的”深紫外光刻機（DUV）在內(nèi)的特定半導體制造設(shè)備實施新的出口管制，并加入美國對華芯片出口管制的陣營。但ASML CEO溫寧克卻似乎并不想加入美國的管制陣營。

　　2023年4月13日，長春光機所官網(wǎng)宣布中國已成功研發(fā)EUV光源的工程樣機。

　　4月17日，荷蘭ASML總裁溫可寧在公開場合發(fā)言稱：

　　“中國自主研發(fā)光刻機，自主建設(shè)芯片產(chǎn)業(yè)鏈，將會破壞全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈?！?/strong>

　　隨后4月27日，他在公司召開的年度股東大會中，對一些國家實施芯片補貼帶來的影響發(fā)出了警告，并對中國采購設(shè)備需求進行了展望。

　　溫寧克稱，美國或歐盟的芯片法案將導致半導體行業(yè)無法立刻消化新增產(chǎn)能，從而導致芯片產(chǎn)業(yè)不斷出現(xiàn)供應過?；蚨倘钡那闆r。中國大陸是阿斯麥僅次于中國臺灣地區(qū)和韓國的第三大市場。因此他強調(diào)，阿斯麥與中國市場的往來，無論是對阿斯麥來說，還是對中國客戶來說，都十分重要。

　　此外，據(jù)美媒報道，當?shù)貢r間5月3日，美國半導體行業(yè)協(xié)會（SIA）總裁兼首席執(zhí)行官約翰·紐菲爾在接受彭博社采訪時表示，中國是美國半導體最大的市場，盡管美國政府存在所謂“國家安全”方面的顧慮，但美國半導體公司不能缺席中國市場。

　　在西方重重打壓與阻撓下，中國更加堅定了自立自強的決心，增強了自主研發(fā)能力，在這種趨勢下，西方的態(tài)度似乎正在發(fā)生轉(zhuǎn)變。

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