真是逆天了，清華大學(xué)搞出了一個(gè)EUV光源方案，震驚了所有人。
最近幾天，隨著華為Mate 60的問世，麒麟9000S的熱度居高不下，國(guó)內(nèi)外各種機(jī)構(gòu)、個(gè)人都在拆解分析這顆芯片，得出的結(jié)論也比較多。但不管真相如何，這顆芯片使用的必然不是最先進(jìn)的工藝制程，但卻獲得了不俗的性能表現(xiàn)，這也讓很多人十分意外，也證明了華為的芯片設(shè)計(jì)方面的能力。
那么隨著這次的突破，大家紛紛猜測(cè)，是不是國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)也有了大進(jìn)展。隨后，關(guān)于國(guó)產(chǎn)DUV光刻機(jī)和EUV光刻機(jī)的也就傳聞越來越多。目前來看，可以總結(jié)為，DUV很快就會(huì)交付使用，EUV快的話是明年。是不是非常值得期待呢？
不過大家也別著急，勁爆的消息還有很多，例如就在剛剛，突然傳出消息，清華大學(xué)正在搞一個(gè)新的EUV光源方案，他就是SSMB-EUV光源，我們先來簡(jiǎn)單說說這個(gè)是什么意思。
大家看圖，感覺是一個(gè)環(huán)形跑道對(duì)吧，這就是它的特別之處，200米長(zhǎng)，20米寬，也就是大。
我們都知道，ASML的EUV光刻機(jī)的光源是小型化的產(chǎn)品，因?yàn)楣饪虣C(jī)是用來銷售的，涉及到運(yùn)輸環(huán)節(jié)，所以決定了它的整機(jī)尺寸不能太大。而我們不需要考慮外觀尺寸的問題，能滿足需求即可。
清華大學(xué)的這個(gè)SSMB-EUV光源，功率達(dá)到了10千瓦，是ASML EUV光源250瓦功率的40倍，能夠同時(shí)支持?jǐn)?shù)十臺(tái)光刻機(jī)，換句話說，一個(gè)大型的EUV光刻機(jī)工廠出現(xiàn)了。想象那個(gè)畫面，都挺美好的。對(duì)此，有網(wǎng)友評(píng)論的非常有趣，由步槍變成了機(jī)關(guān)槍，還有網(wǎng)友說這哪是光刻機(jī)，這是光刻炮??！
這個(gè)大型裝置首先是利用高重頻微波電子槍產(chǎn)生一串電子束，長(zhǎng)度百納秒量級(jí)。產(chǎn)生的電子束將在一段直線加速腔中被加速到約400 MeV，此時(shí)的電子束是脈沖分布的，間隔為加速所用微波的周期(約10 cm)。之后將這些電子束團(tuán)注入到展束環(huán)中對(duì)束團(tuán)進(jìn)行縱向的拉伸，使電流分布由梳狀得到展平，得到在縱向上均勻分布的準(zhǔn)連續(xù)束團(tuán)。之后將該束團(tuán)從展束環(huán)引出，注入到SSMB主環(huán)中進(jìn)行儲(chǔ)存，在主環(huán)中，電子束由于激光調(diào)制器的聚束作用并在量子激發(fā)和輻射阻尼平衡下保持微聚束狀態(tài)， 束長(zhǎng)在數(shù)十納米量級(jí)。該微聚束在輻射段被進(jìn)一步壓縮到3nm左右，實(shí)現(xiàn)波長(zhǎng)13.5nm的強(qiáng)相干輻射，從而輸出千瓦量級(jí)的EUV光。
另外，SSMB-EUV光源并不是現(xiàn)在才有的，早在2021年年初，相關(guān)的論文就發(fā)表在了世界頂級(jí)學(xué)術(shù)期刊《自然》上。
并且根據(jù)今年年初官方的消息，SSMB-EUV光源落戶雄安。
其實(shí)早期的極紫外光也是靠大型電子加速器獲取的，但是為了將EUV光刻機(jī)商品化，所以對(duì)EUV光源進(jìn)行了小型化改造，所以其技術(shù)難度也很高。
當(dāng)然，有了SSMB-EUV光源，不意味著傳統(tǒng)的EUV光源我們就不搞了。例如，頭一段時(shí)間，長(zhǎng)春光機(jī)所公開了一批省科技獎(jiǎng)提名項(xiàng)目，其中有五項(xiàng)是與光刻機(jī)有關(guān)，并且大部分都跟EUV光刻機(jī)有關(guān)，包括極紫外光光刻機(jī)光學(xué)技術(shù)?？梢?，我國(guó)在EUV光源領(lǐng)域已經(jīng)取得了不少突破。
多種技術(shù)方向齊頭并進(jìn)，這也是我們的傳統(tǒng)，哪個(gè)先完成，哪個(gè)技術(shù)先進(jìn)、成本可靠、效率高，就先用哪個(gè)。
總之，SSMB-EUV光源這個(gè)方案極具創(chuàng)新性，把極紫外光光源變成了類似發(fā)電廠發(fā)出來的電，天然氣公司輸送的天然氣，供暖企業(yè)提供的熱水，把這些資源變成了一種原材料，根據(jù)自己的需求購買，極大的降低了EUV光刻機(jī)的復(fù)雜性，有效降低了技術(shù)難度，好處多多。
不管怎樣，從多種線索來看，有網(wǎng)友表示的國(guó)產(chǎn)EUV光刻機(jī)也快了，看來絕非空穴來風(fēng)。不論是ASML的DUV光刻機(jī)還是EUV光刻機(jī)，都是西方按照他們的邏輯、技術(shù)去實(shí)現(xiàn)的。不意味著，我們一定要走他們走過的路，這時(shí)，中國(guó)人所具備的聰明特質(zhì)，就發(fā)揮作用了。
所以，還是那句話，千萬別再用西方的過往經(jīng)驗(yàn)套用在中國(guó)身上，真的不適用。那么接下來，就讓我們等待更多國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的好消息吧。
