《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁 > EDA與制造 > 業(yè)界動態(tài) > 我國在硅光子集成領(lǐng)域取得里程碑式突破

我國在硅光子集成領(lǐng)域取得里程碑式突破

2024-10-08
來源:芯智訊

1.png

據(jù)“九峰山實驗室”官方消息,2024年9月,該實驗室在硅光子集成領(lǐng)域取得里程碑式突破性進展——成功點亮集成到硅基芯片內(nèi)部的激光光源,這也是該項技術(shù)在國內(nèi)的首次成功實現(xiàn)。

隨著人工智能大模型的開發(fā)和應(yīng)用,以及自動駕駛等技術(shù)的發(fā)展,對于芯片算力的需求持續(xù)提升,但是半導(dǎo)體先進制程工藝已經(jīng)越來越逼近物理極限,在單個芯片上增加晶體管密度這條路徑越來越難,每一代制程的提升所能夠帶來的性能提升或功耗降低也越來越有限,同時還帶來成本的急劇上升,這也意味著摩爾定律無法繼續(xù)發(fā)揮作用。為此,不少半導(dǎo)體廠商將目光轉(zhuǎn)向了先進封裝技術(shù),即通過將多個芯粒封裝在同一塊基板上,以提升晶體管數(shù)量,從而提高性能。

但是,在單個封裝單元中芯粒越多,它們之間的互連就越多,數(shù)據(jù)傳輸距離也就越長,傳統(tǒng)的電互連技術(shù)迫切需要演進升級。與電信號相比,光傳輸?shù)乃俣雀?、損耗更小、延遲更少,芯片間光互聯(lián)技術(shù)被認為是推動下一代信息技術(shù)革命的關(guān)鍵技術(shù),也被認為是在后摩爾時代突破集成電路技術(shù)發(fā)展所面臨的功耗、帶寬和延時等瓶頸的理想方案。

2.png

△芯片間光互聯(lián)示意圖

目前業(yè)界對硅光全集成平臺的開發(fā)最難的挑戰(zhàn)在于對硅光芯片的“心臟”,即能高效率發(fā)光的硅基片上光源的開發(fā)和集成上。該技術(shù)是我國光電子領(lǐng)域在國際上僅剩不多的空白環(huán)節(jié)。

此次九峰山實驗室硅光工藝團隊與合作伙伴協(xié)同攻關(guān),成功在8英寸硅光晶圓上異質(zhì)鍵合III-V族激光器材料外延晶粒,再進行CMOS兼容性的片上器件制成工藝,成功解決了III-V材料結(jié)構(gòu)設(shè)計與生長、材料與晶圓鍵合良率低,及異質(zhì)集成晶圓片上圖形化與刻蝕控制等難點。經(jīng)過近十年的追趕攻關(guān),終成功點亮片內(nèi)激光,實現(xiàn)“芯片出光”。

3.png

△九峰山實驗室8英寸硅基片上光源芯片晶圓

相較于傳統(tǒng)的分立封裝外置光源和FC微組裝光源,九峰山實驗室片上光源技術(shù)能有效解決傳統(tǒng)硅光芯片耦合效率不夠高、對準調(diào)節(jié)時間長、對準精度不夠好的工藝問題,突破了制作成本高、尺寸大、難以大規(guī)模集成等量產(chǎn)瓶頸。

資料顯示,湖北九峰山實驗室主要聚焦于化合物半導(dǎo)體研發(fā)與創(chuàng)新,于2023年3月正式投入運營。成立一年半時間,九峰山實驗室就吸引了近30家半導(dǎo)體鏈條企業(yè)比鄰而居,總估值超百億元,培育半導(dǎo)體領(lǐng)域人才超3萬人。九峰山實驗室在這一年時間里,還實現(xiàn)了8英寸中試線通線運行,首批晶圓(高精密光柵)成功下線,填補了國內(nèi)高線密度、超高折射率、非周期性高精密光柵生產(chǎn)工藝空白。

2024年2月20日,九峰山實驗室宣布全球首片8英寸硅光薄膜鈮酸鋰光電集成晶圓成功在該實驗室下線。該成果使用8英寸SOI硅光晶圓鍵合8寸鈮酸鋰晶圓,單片集成光電收發(fā)功能,為目前全球硅基化合物光電集成最先進技術(shù)。該項成果可實現(xiàn)超低損耗、超高帶寬的高端光芯片規(guī)模制造,為目前全球綜合性能最優(yōu)的光電集成芯片。

4.png

除自身不斷創(chuàng)新突破外,作為國內(nèi)為數(shù)不多的公共、開放、中立、共享的科研平臺,九峰山實驗室還與產(chǎn)業(yè)鏈各龍頭企業(yè)通力合作,以“用”為導(dǎo)向,布局開發(fā)共性技術(shù),推進國產(chǎn)半導(dǎo)體材料、設(shè)備的驗證工作,打造化合物半導(dǎo)體中試平臺。

在九峰山實驗室,9000平方米的潔凈室內(nèi),有上百個項目在同時運轉(zhuǎn):

上海邦芯半導(dǎo)體科技有限公司研發(fā)的刻蝕、薄膜沉積設(shè)備,在九峰山實驗室的助推下,實現(xiàn)多款設(shè)備的量產(chǎn)。

武漢驛天諾科技有限公司與九峰山實驗室合作開發(fā)的硅光及三代半導(dǎo)體晶圓級、芯片級、器件級封測裝備,測試精度達到微米級。

華工科技研制的首套高端半導(dǎo)體晶圓激光切割系列裝備借助九峰山實驗室平臺通過了中試驗證,獲取測試報告的設(shè)備已成功導(dǎo)入下游企業(yè)。

驛天諾科技有限公司董事長單娜表示,在九峰山實驗室平臺的引薦下,公司已經(jīng)拓展了一批新客戶,獲得了一批訂單,下一步還會入駐九峰山科技園區(qū),進一步擴大經(jīng)營規(guī)模。

九峰山實驗室有關(guān)負責人此前在接受媒體采訪時表示,我們希望與更多合作伙伴共同點亮化合物半導(dǎo)體平臺、技術(shù)、產(chǎn)業(yè)的“燈塔”,為未來3~10年的技術(shù)難題進行前沿探索和技術(shù)攻關(guān),打通全產(chǎn)業(yè)鏈條中的“斷點”,拉平產(chǎn)學研融合發(fā)展的鴻溝,引領(lǐng)全球化合物半導(dǎo)體技術(shù)進步。

目前,九峰山實驗室周邊已聚集了近30家化合物半導(dǎo)體龍頭企業(yè)和創(chuàng)新型中小企業(yè),到2025年,這里將聚集產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)100家以上,培育1到2家細分領(lǐng)域龍頭企業(yè),在存儲、化合物半導(dǎo)體、傳感器、先進封裝等細分領(lǐng)域打造一批創(chuàng)新產(chǎn)品,形成化合物半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)生態(tài)。


Magazine.Subscription.jpg

本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題,請及時通過電子郵件或電話通知我們,以便迅速采取適當措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話:010-82306118;郵箱:aet@chinaaet.com。