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世界首家※!ROHM開(kāi)始量產(chǎn)采用溝槽結(jié)構(gòu)的SiC-MOSFET 導(dǎo)通電阻大大降低,有助于工業(yè)設(shè)備等大功率設(shè)備的小型化與低功耗化

2015-06-28

【ROHM半導(dǎo)體(上海)有限公司 06月25日上海訊】

       全球知名半導(dǎo)體制造商ROHM近日于世界首家※開(kāi)發(fā)出采用溝槽結(jié)構(gòu)的SiC-圖片1.jpgMOSFET,并已建立起了完備的量產(chǎn)體制。與已經(jīng)在量產(chǎn)中的平面型SiC-MOSFET相比,同一芯片尺寸的導(dǎo)通電阻可降低50%,這將大幅降低太陽(yáng)能發(fā)電用功率調(diào)節(jié)器和工業(yè)設(shè)備用電源、工業(yè)用逆變器等所有相關(guān)設(shè)備的功率損耗。

另外,此次開(kāi)發(fā)的SiC-MOSFET計(jì)劃將推出功率模塊及分立封裝產(chǎn)品,目前已建立起了完備的功率模塊產(chǎn)品的量產(chǎn)體制。前期工序的生產(chǎn)基地為ROHM Apollo Co., Ltd.(日本福岡縣),后期工序的生產(chǎn)基地為ROHM總部工廠(日本京都市)。今后計(jì)劃還將逐步擴(kuò)充產(chǎn)品陣容。

 

<背景>

       近年來(lái),在全球范圍尋求解決供電問(wèn)題的大背景下,涉及到如何有效地輸送并利用所發(fā)電力的“功率轉(zhuǎn)換”備受關(guān)注。SiC功率器件作為可顯著減少這種功率轉(zhuǎn)換時(shí)的損耗的關(guān)鍵器件而備受矚目。ROHM一直在進(jìn)行領(lǐng)先行業(yè)的相關(guān)產(chǎn)品研發(fā),于2010年成功實(shí)現(xiàn)SiC MOSFET的量產(chǎn),并在持續(xù)推進(jìn)可進(jìn)一步降低功率損耗的元器件開(kāi)發(fā)。

京都大學(xué) 工學(xué)研究科 電子工學(xué)專業(yè)  木本恒暢教授表示:

       “Si(硅)材料已經(jīng)接近其理論性能極限。對(duì)此,ROHM公司率先發(fā)力采用可實(shí)現(xiàn)高耐壓、低損耗(高效率)的SiC(碳化硅:Silicon carbide)材料的SiC功率器件,一直在推進(jìn)領(lǐng)先全球的開(kāi)發(fā)與量產(chǎn)。

此次,采用可最大限度發(fā)揮SiC特性的溝槽結(jié)構(gòu)的SiC-MOSFET在全球率先實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),其成功意義非常巨大,是劃時(shí)代的里程碑。該SiC-MOSFET是兼?zhèn)錁O其優(yōu)異的低損耗特性與高速開(kāi)關(guān)特性的最高性能的功率晶體管,功率轉(zhuǎn)換時(shí)的效率更高,可“毫無(wú)浪費(fèi)”地用電,其量產(chǎn)將為太陽(yáng)能發(fā)電用功率調(diào)節(jié)器和工業(yè)設(shè)備用電源等所有設(shè)備進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)節(jié)能化、小型化、輕量化做出貢獻(xiàn)?!?/p>



圖片2.jpg<特點(diǎn)>

1. 采用溝槽結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)低導(dǎo)通電阻功率器件

       到目前為止,溝槽結(jié)構(gòu)因在SiC-MOSFET中采用可有效降低導(dǎo)通電阻而備受關(guān)注,但為了確保元器件的長(zhǎng)期可靠性,需要設(shè)計(jì)能夠緩和Gate Trench部分產(chǎn)生的電場(chǎng)的結(jié)構(gòu)。

       此次,ROHM通過(guò)采用獨(dú)創(chuàng)的結(jié)構(gòu),成功地解決了該課題,并世界首家實(shí)現(xiàn)了采用溝槽結(jié)構(gòu)的SiC-MOSFET的量產(chǎn)。與已經(jīng)在量產(chǎn)中的平面型SiC-MOSFET相比,導(dǎo)通電阻可降低約50%,同時(shí)還提高了開(kāi)關(guān)性能(輸入電容降低約35%)。


圖片3.jpg2. “全SiC”功率模塊拓展       ROHM又開(kāi)發(fā)出采用此次開(kāi)發(fā)的溝槽結(jié)構(gòu)SiC-MOSFET的“全SiC”功率模塊。

       該產(chǎn)品內(nèi)部電路為2in1結(jié)構(gòu),采用SiC-MOSFET及SiC-SBD,額定電壓1200V,額定電流180A。

       與同等水平額定電流的Si-IGBT模塊產(chǎn)品相比,其顯著優(yōu)勢(shì)當(dāng)然不必言說(shuō),即使與使用平面型SiC-MOSFET的“全SiC”模塊相比,其開(kāi)關(guān)損耗也降低了約42%。

 

<產(chǎn)品陣容>

?“全SiC”功率模塊

圖片1.jpg

圖片2.jpg

?分立產(chǎn)品

ROHM將依次展開(kāi)額定電壓650V、1200V各3款產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)。額定電流將繼續(xù)開(kāi)發(fā)118A(650V)、95A(1200V)的產(chǎn)品。

<術(shù)語(yǔ)解說(shuō)>

?MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor的簡(jiǎn)稱)

金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管,是FET中最被普遍使用的結(jié)構(gòu)。

作為開(kāi)關(guān)元件使用。 

?溝槽式結(jié)構(gòu)

溝槽(Trench)意為凹槽。是在芯片表面形成凹槽,在其側(cè)壁形成MOSFET柵極的結(jié)構(gòu)。不存在平面型MOSFET在結(jié)構(gòu)上存在的JFET電阻,比平面結(jié)構(gòu)更容易實(shí)現(xiàn)微細(xì)化,因此有望實(shí)現(xiàn)接近SiC材料原本性能的導(dǎo)通電阻。

 



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