美商務(wù)部再禁6項(xiàng)新興技術(shù)，包括光刻軟件和5nm生產(chǎn)技術(shù)！
剛剛，最新消息：美國(guó)商務(wù)部工業(yè)安全局（BIS）又對(duì)六項(xiàng)新興技術(shù)實(shí)施了管控，宣布將六項(xiàng)新興技術(shù)添加到《出口管理?xiàng)l例》（EAR）的商務(wù)部管制清單（CCL）中。而這其中包括了極紫外線（EUV）掩模的計(jì)算光刻技術(shù)軟件和5nm 生產(chǎn)精加工芯片的技術(shù)，兩條直指了對(duì)芯片的制造的封鎖。
據(jù)了解，目前受到出口管制的新興技術(shù)總數(shù)已經(jīng)達(dá)到了37項(xiàng)。美國(guó)商務(wù)部在官網(wǎng)發(fā)布公告中寫道：“此舉是為了支持關(guān)鍵及新興技術(shù)這一國(guó)家戰(zhàn)略”。
本次被增列商業(yè)管制清單的六項(xiàng)新興技術(shù)為：
混合增材制造/計(jì)算機(jī)數(shù)控工具
特定的計(jì)算光刻軟件
用于為5nm生產(chǎn)精加工晶圓的某些技術(shù)
有限的數(shù)字取證分析工具
用于監(jiān)測(cè)電信服務(wù)通信的某些軟件
亞軌道航天器
據(jù)了解，目前受到出口管制的新興技術(shù)總數(shù)已經(jīng)達(dá)到了37項(xiàng)。美國(guó)商務(wù)部在官網(wǎng)發(fā)布公告中寫道：“此舉是為了支持關(guān)鍵及新興技術(shù)這一國(guó)家戰(zhàn)略”。
“關(guān)鍵技術(shù)和新興技術(shù)國(guó)家戰(zhàn)略是保護(hù)美國(guó)國(guó)家安全，確保美國(guó)在軍事、情報(bào)和經(jīng)濟(jì)事務(wù)中保持技術(shù)領(lǐng)先地位的重要戰(zhàn)略部署?！泵绹?guó)商務(wù)部部長(zhǎng)Wilbur Ross說道，并表示“美國(guó)商務(wù)部已經(jīng)對(duì)30多種新興技術(shù)的出口實(shí)施了管控，我們將繼續(xù)評(píng)估和確定未來還有哪些技術(shù)需要管控。”
公告指出，最新的商業(yè)出口管制是依照2019年12月全體大會(huì)上達(dá)成的協(xié)議——《常規(guī)軍備和兩用物品及技術(shù)出口管制瓦森納協(xié)議》實(shí)施的。制定和實(shí)施對(duì)新興技術(shù)的多邊控制符合《2018年出口控制改革法案》（ECRA）的要求后，最終確定管控下列幾項(xiàng)新興和基礎(chǔ)性技術(shù)的出口將對(duì)美國(guó)國(guó)家安全起到至關(guān)重要的作用。
美國(guó)實(shí)施出口管制的六大技術(shù)，都與芯片制造中最重要的設(shè)備光刻機(jī)息息相關(guān)，尤其是當(dāng)下5nm芯片已成為高端芯片時(shí)代的主流產(chǎn)品，EUV光刻機(jī)在半導(dǎo)體制程的重要意義可想而知。
“用于制造極紫外線掩模的計(jì)算光刻技術(shù)軟件”涵蓋EUV光刻所需的特定軟件，包括與三維（3D）效應(yīng)、掩模陰影效應(yīng)、光照方向效應(yīng)、遠(yuǎn)距離眩光效應(yīng)、鄰近效應(yīng)、抗蝕劑中的隨機(jī)性效應(yīng)以及源掩模優(yōu)化有關(guān)的軟件，這類軟件是在晶圓上做出經(jīng)過優(yōu)化的光刻膠圖案必需的軟件；而“用于為5nm生產(chǎn)精加工芯片的技術(shù)”旨在應(yīng)用于面向5nm生產(chǎn)的晶圓，包括對(duì)直徑300 mm的硅晶圓進(jìn)行切片、打磨和拋光以達(dá)到某些標(biāo)準(zhǔn)所需要的技術(shù)，以及盡量減小平坦度（或SFQR）和表面缺陷的技術(shù)以及局部光散射體（LLS）。以上兩類技術(shù)都受到國(guó)家安全和反恐管制的約束。
目前全世界唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的企業(yè)只有荷蘭ASML公司，而ASML最大的兩大股東資本國(guó)際集團(tuán)（MSCI）和貝萊德集團(tuán)（BlackRock,Inc.）都是美國(guó)公司，其用于打造EUV光刻機(jī)的高精技術(shù)也有不少為美國(guó)所持有。
美國(guó)商務(wù)部此舉相當(dāng)于直接封鎖了高端芯片的制造技術(shù)，針對(duì)的是誰(shuí)不用多說。從目前來看，中國(guó)作為美國(guó)芯片產(chǎn)品最大的采購(gòu)國(guó)之一，受出口管制影響是巨大的。
這是BIS自2018年通過ECRA法令以來實(shí)施的第四套新興技術(shù)管控措施。BIS在此之前曾公布了三份聯(lián)邦文件通知，對(duì)航空航天、生物技術(shù)、化學(xué)、電子、加密、地理空間圖像和海洋領(lǐng)域的31項(xiàng)新興技術(shù)實(shí)施了管制，其中大多數(shù)是在多邊支持下實(shí)施的。其中包括因化學(xué)/生物和反恐理由而受管制的24種化學(xué)武器前體，以及：
分立微波晶體管（Discrete microwave transistors）
操作軟件的連續(xù)性（Continuity of operation software）
Post-quantum密碼學(xué)（Post-quantum cryptography）
用作水聽器工作的水下傳感器（Underwater transducers designed to operate as hydrophones）
空中發(fā)射平臺(tái)（Air-launch platforms）
地理空間圖像軟件（單側(cè)）（Geospatial imagery software（unilateral））
一次性生物培育箱（Single-use biological cultivation chambers）
總體而言，受新管制影響最大的幾個(gè)行業(yè)是航空航天、生物技術(shù)、化學(xué)、電子、加密、地理空間圖像和海洋行業(yè)。正如BIS所承諾的那樣，新興技術(shù)是加以嚴(yán)格定義的，幾乎都受到多邊管制的約束。
需要注意的是，根據(jù)ECRA規(guī)定，商務(wù)部工業(yè)安全局已于2020年8月27日起就基礎(chǔ)技術(shù)鑒定征求公眾意見，公眾意見征詢期將持續(xù)到2020年11月9日，也就是說，未來或許還會(huì)有更多新興和關(guān)鍵技術(shù)被列入出口管制清單的可能。