文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼: A
DOI:10.16157/j.issn.0258-7998.200753
中文引用格式: 李涇渭,辛青,郁杰,等. 使用最小二乘迭代相移方法測(cè)量透明元件[J].電子技術(shù)應(yīng)用,2021,47(1):100-107.
英文引用格式: Li Jingwei,Xin Qing,Yu Jie,et al. Measure transparent elements using least squares iterative phase shift method[J]. Application of Electronic Technique,2021,47(1):100-107.
0 引言
光學(xué)元件面形最主要的檢測(cè)方法是相移干涉法,在傳統(tǒng)情況下,被檢測(cè)的光學(xué)元件只有一個(gè)光滑表面,使用傳統(tǒng)的相移干涉算法,能檢測(cè)到高精度的光學(xué)元件面形[1-2]。但是,當(dāng)傳統(tǒng)的相移干涉算法檢測(cè)前后兩個(gè)表面都光滑的光學(xué)元件時(shí),由于被測(cè)元件前后兩個(gè)表面都會(huì)產(chǎn)生反射光,所形成的干涉圖像由多表面干涉形成,傳統(tǒng)的相移干涉無(wú)法分離各自的干涉條紋,故無(wú)法測(cè)得此時(shí)的光學(xué)元件的面形。
目前常用的消除多表面干涉的方法是使用折射率匹配的消光漆或凡士林涂抹在被測(cè)光學(xué)元件的后表面,抑制后表面的反射,或者使用多模激光器[3]使后表面的反射光與測(cè)試光不相干。但是前者方法需要接觸測(cè)試面,可能導(dǎo)致其面形遭到破壞;后者方法使用的實(shí)驗(yàn)裝置過(guò)于復(fù)雜,其受環(huán)境影響較大,其結(jié)果不夠精確。TSURUTA T等學(xué)者使用白光干涉儀測(cè)量多表面面形[4],此后其他作者也使用了白光干涉測(cè)量法[5-6],此方法可以使多個(gè)表面引起的干涉條紋交替分離,由分離的干涉條紋可以測(cè)量出測(cè)試元件的面形現(xiàn)狀。但是,由于此測(cè)量方法使用白光LED作為光源,其相干長(zhǎng)度允許范圍小于2 μm,并且,當(dāng)測(cè)試樣品的厚度大于1 mm時(shí),由于透射光的光程差的零位置隨每個(gè)波長(zhǎng)不同而不同,測(cè)量精度會(huì)降低。此外,徐建程等提出了一種單幅三表面干涉條紋空域傅里葉分析方法[7],此方法基于多表面干涉時(shí)每個(gè)面反射率不同,在頻譜域中各個(gè)面的反射條紋將被分離,但是需要引入空間載波且精度較低。
使用波長(zhǎng)調(diào)諧干涉儀[8-10],可以解決上述問(wèn)題。如果波長(zhǎng)調(diào)諧干涉儀的光源波長(zhǎng)根據(jù)時(shí)間線性變化,其與干涉光束的光程差成比例,當(dāng)掃描時(shí)的波長(zhǎng)變化小于1 nm時(shí),其表面面形將以納米精度確定[11-13]。由于使用單色光作為光源,干涉圖像由不同表面形成的干涉條紋組成,為了在干涉圖像中正確地提取特定干涉信號(hào)的相位,需要使用一個(gè)特殊的相移算法。本文基于最小二乘擬合算法,使用最小二乘迭代的方法對(duì)多表面干涉圖進(jìn)行分析,并使用窗函數(shù)對(duì)不同表面的干涉圖進(jìn)行分離。
本文詳細(xì)內(nèi)容請(qǐng)下載:http://theprogrammingfactory.com/resource/share/2000003336
作者信息:
李涇渭,辛 青,郁 杰,侯昌倫
(杭州電子科技大學(xué) 電子信息學(xué)院,浙江 杭州310000)