近日,韓媒BusinessKorea報(bào)道稱三星SDI已開始開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠 (PR),旨在將幾乎由日企壟斷的光刻膠生產(chǎn)內(nèi)部化。

事實(shí)上,這則消息并不突兀,因?yàn)樵缭?019年的時(shí)候,當(dāng)日本斷供韓國(guó)光刻膠的時(shí)候,就傳了類似的消息。

不過三星SDI一直以來,并沒有提及光刻膠開發(fā)項(xiàng)目的啟動(dòng)和完成時(shí)間,只是表示一旦完成開發(fā),不僅是自用,還要向其他半導(dǎo)體公司和其他使用光刻膠的公司出售。

而基于這次BusinessKorea報(bào)道,三星SDI表示,公司確實(shí)在開發(fā)各種類型的光刻膠,包括EUV光刻膠。

光刻膠目前主要有5大類,分別是g線、i線、KrF、ArF、EUV,這5種光刻膠針對(duì)不同的工藝制程。g線/i線主要用于250nm以上工藝;KrF用于250nm-130nm工藝;ArF用于130nm-14nm;EUV光刻膠主要用于7nm及以下工藝。

我們知道日本在光刻膠領(lǐng)域是處于壟斷地位的,在g線/i線、KrF、ArF、EUV這幾種光刻膠市場(chǎng)中,日本企業(yè)的市占率分別為61%、80%、93%,100%,總體份額超過75%。

也正因?yàn)槿绱?所以一旦日本要斷供光刻膠,對(duì)所有的芯片制造企業(yè)而言,都是一個(gè)大大的打擊,特別是對(duì)于三星這樣的廠商而言,畢竟EUV光刻膠只有日企才有,而三星生產(chǎn)7nm及以下的芯片,必須用到EUV光刻膠。估計(jì)這也是三星要研發(fā)光刻膠的原因,這樣不至于讓日本廠商卡住了脖子。

事實(shí)上,中國(guó)光刻膠同樣處于尷尬地位,目前國(guó)內(nèi)g線/i線光刻膠自給率約為20%,KrF光刻膠自給率不足5%,ArF光刻膠自給率為0,完全依賴進(jìn)口,而EUV光刻膠就更加不用提了,自然不可能有,不過反正也不需要,國(guó)內(nèi)生產(chǎn)技術(shù)還14nm,用不到EUV光刻膠。

國(guó)內(nèi)最牛的南大光電,前段時(shí)間表示已經(jīng)研發(fā)出了ArF光刻膠,但還只能用在50nm工藝上,低于50nm工藝的光刻膠,意味著全部要進(jìn)口。

所以我們真應(yīng)該向三星學(xué)習(xí),目前國(guó)內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)高速發(fā)展,光刻膠是制造中必不可少的一種材料,必須自研才行,否則隨時(shí)被日企卡脖子,你覺得呢?