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三星靜候臺(tái)積電「犯錯(cuò)」

2022-10-27
來(lái)源:雷科技

四個(gè)月前,三星電子副董事長(zhǎng)李在镕開啟了自己的訪歐之旅,最關(guān)鍵的還是荷蘭,不僅與多名 ASML 高層舉行了會(huì)談,轉(zhuǎn)頭還向荷蘭總理要起支持:

千萬(wàn)確保 ASML 穩(wěn)定供應(yīng) EUV 光刻機(jī)

過(guò)去兩年蔓延全球的芯片短缺問(wèn)題,主要還是局限在成熟制程,但問(wèn)題已經(jīng)要蔓延到了先進(jìn)制程。據(jù) 6 月初 WSJ 報(bào)道 ,部分臺(tái)積電客戶收到警告,表示該公司未來(lái)兩年擴(kuò)產(chǎn)速度將不如預(yù)期,主因是包括 EUV 光刻機(jī)在內(nèi)的制造設(shè)備缺少,分析師指 2024 年先進(jìn)制程工藝的缺口可能高達(dá) 20%。

ASML EUV 光刻機(jī)零部件,圖/ASML

但 ASML 產(chǎn)能終究還是有限,甚至三星自身的戰(zhàn)略也有了變化。

據(jù) 10 月 25 日韓國(guó)經(jīng)濟(jì)新聞的報(bào)道 ,三星電子調(diào)整了戰(zhàn)略方向,將擴(kuò)大投資成熟制程工藝。三星電子半導(dǎo)體代工事業(yè)部計(jì)劃到 2024 年將傳統(tǒng)和特色工藝的數(shù)量增加 10 個(gè)以上,到 2027 年將對(duì)應(yīng)產(chǎn)能提高到 2018 年的 2.3 倍。

傳統(tǒng)工藝是 10nm~180nm 等半導(dǎo)體代工企業(yè)從過(guò)去開始進(jìn)行技術(shù)開發(fā)的過(guò)程中誕生的「標(biāo)準(zhǔn)」工藝;特色工藝是針對(duì)特定客戶需求將傳統(tǒng)工藝進(jìn)行定制化改進(jìn)。

上周還有消息傳出 ,三星考慮將旗下更多芯片委外代工,除了已有的圓晶代工伙伴聯(lián)電,還會(huì)新增世界先進(jìn)和力積電兩家協(xié)助芯片代工,主要仍是成熟制程。

在此之前,三星一直致力于在最先進(jìn)的制程上與臺(tái)積電競(jìng)爭(zhēng)。今年 6 月,三星 3nm 制程工藝正式量產(chǎn),并首次用上全環(huán)繞柵極晶體管技術(shù)(以下簡(jiǎn)稱 GAA)。臺(tái)積電則在近日再次對(duì)外確認(rèn),3nm 將在今年第四季度晚些時(shí)候開始量產(chǎn),預(yù)計(jì) 2023 年開始滿載運(yùn)行。此外,臺(tái)積電還指出在 2nm 工藝上才會(huì)引入 GAA 技術(shù)。

一方面在 3nm 上「領(lǐng)先」臺(tái)積電一步,另一方面卻在加大自身和委外成熟制程的產(chǎn)能。常識(shí)告訴我們,資源有限才所以需要資源配置,三星在擴(kuò)大成熟制程工藝投資的同時(shí),就要相對(duì)應(yīng)縮減在先進(jìn)制程上的投入比例。

這很矛盾,但首先三星在先進(jìn)制程上的「領(lǐng)先」本身就存在問(wèn)題。

「虛假」的 3nm,跌倒的三星

過(guò)去幾年,芯片代工廠在制程的「文字游戲」上愈演愈烈,英特爾、三星、臺(tái)積電對(duì)外說(shuō)的同一納米制程實(shí)際上相差甚大,如英特爾的 10nm 制程工藝實(shí)際相近臺(tái)積電和三星的 7nm。

三星 3nm 和臺(tái)積電 3nm 同樣存在很大的不同。從性能的角度看,三星 3nm(3GAE)工藝的晶體管密度為 1.7 億/平方毫米,大大低于臺(tái)積電 3nm(N3)工藝的 2.9 億/平方毫米,反倒更接近臺(tái)積電 5nm 和英特爾 7nm 的水平。

另一方面,三星在 3nm 節(jié)點(diǎn)首次引入 GGA 技術(shù),有分析指該技術(shù)尚不成熟。目前尚不明晰三星引入 GGA 技術(shù)帶來(lái)的影響程度,但據(jù)中國(guó)電子報(bào)近期的報(bào)道,三星在先進(jìn)制程芯片上深陷良率的泥沼,3nm 良率僅為 35%,臺(tái)積電 3nm 良率則達(dá)到了80%。

再加上此前三星在 4nm 上工藝表現(xiàn),更多的高端客戶都在流向臺(tái)積電,包括長(zhǎng)期選擇三星半導(dǎo)體進(jìn)行芯片代工的高通。

去年底,高通發(fā)布全新命名的驍龍 8 Gen 1,但這塊 SoC 由于在發(fā)熱和功耗上存在重大問(wèn)題,很大程度上影響了 Android 旗艦在高端手機(jī)市場(chǎng)的表現(xiàn)。后續(xù)終于轉(zhuǎn)而采用臺(tái)積電 4nm 工藝代工驍龍 8 Gen 1+,才終于在市場(chǎng)上挽回一點(diǎn)口碑和認(rèn)可。

到了下一代驍龍 8 Gen 2,高通更是直接選擇了臺(tái)積電 4nm。再加上蘋果、英偉達(dá)、AMD、聯(lián)發(fā)科等,臺(tái)積電幾乎攘括了全世界最頂尖的芯片廠商。而三星的首發(fā)客戶,卻是一家中國(guó)礦機(jī)芯片廠商 PanSemi。

對(duì)三星來(lái)說(shuō),這無(wú)疑是相當(dāng)糟糕的事情,畢竟目前新建一條 3nm 產(chǎn)線的成本約為 150-200 億美元,巨大的資金投入需要更多更高端的客戶訂單。

但三星眼下除了在臺(tái)積電的產(chǎn)能外獲得訂單,以及在價(jià)格上做出競(jìng)爭(zhēng)以爭(zhēng)取對(duì)價(jià)格更敏感的客戶,似乎只能在更先進(jìn)的 2nm 做出突破,或是在傳統(tǒng)工藝市場(chǎng)搶占臺(tái)積電的份額。

事實(shí)上,除了在先進(jìn)制程上領(lǐng)先,臺(tái)積電 46% 的收入都來(lái)自傳統(tǒng)和特色工藝,尤其是目前市場(chǎng)占主流需求的 28nm,考慮到這些制程工藝都是臺(tái)積電過(guò)去 35 年推進(jìn)工藝過(guò)程中「留下」的,占主要成本的圓晶廠投入基本都已收回,利潤(rùn)更是可觀。

三星作為后進(jìn)者,過(guò)去的選擇是在與臺(tái)積電競(jìng)爭(zhēng)先進(jìn)工藝的同時(shí),積累不同階段工藝,如在圖像傳感器(CMOS)方面,傳統(tǒng)使用 28nm 工藝,三星卻將用于高級(jí)圖像傳感器的 17nm 工藝,與索尼競(jìng)爭(zhēng) CMOS 市場(chǎng)。

而引導(dǎo)三星的,大概是「在 2030 年成為世界第一的半導(dǎo)體代工企業(yè)」的目標(biāo)。當(dāng)然,這也意味著需要超越臺(tái)積電。

失效的摩爾定律,領(lǐng)先者的困境

毫無(wú)疑問(wèn),臺(tái)積電不僅是全球最大的半導(dǎo)體代工企業(yè),也在 7nm 和 5nm 的關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)上成為了最大的贏家。根據(jù)臺(tái)積電今年第三季度財(cái)報(bào),7nm 和 5nm 貢獻(xiàn)的收入已經(jīng)占到了整體的 54%。

這種優(yōu)勢(shì)目前來(lái)看還會(huì)繼續(xù)延續(xù)到 3nm 節(jié)點(diǎn)。蘋果 A17 芯片基本確認(rèn)將由臺(tái)積電獨(dú)家生產(chǎn),也有多個(gè)消息源指出 M2 系列高性能處理器也將由臺(tái)積電獨(dú)吞,此外還有高通將在 2023 年發(fā)布的旗艦芯片,甚至是英特爾的 15 代酷睿。

超能網(wǎng)引述 Twitter 用戶 @OneRaichu 指出,Arrow Lake-P 移動(dòng)處理器將采用英特爾自己的 20A(原英特爾 5nm)工藝,Arrow Lake-S 桌面處理器采用臺(tái)積電的 N3(3nm)工藝。

至于 2nm 的節(jié)點(diǎn),臺(tái)積電和三星都計(jì)劃在 2025 年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),英特爾則更加激進(jìn)地將 18A(接近臺(tái)積電 2nm)工藝定在 2024 年量產(chǎn)。但隨著制程逼近物理極限,摩爾定律越來(lái)越不能指導(dǎo)整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)繼續(xù)前進(jìn)了。

1965 年,時(shí)任仙童半導(dǎo)體公司研發(fā)總監(jiān)的戈登?摩爾發(fā)文預(yù)言:

在最小成本的前提下,單個(gè)芯片上的元器件數(shù)量基本上是每一年翻一倍。并且至少在未來(lái)十年保持這個(gè)增長(zhǎng)速度,到 1975 年單個(gè)芯片上將集成 65,000 個(gè)元器件。

這段被稱為「摩爾定律」的話后來(lái)逐漸演變成:

1. 集成電路上集成的晶體管數(shù)目,每 18 個(gè)月翻一番;

2. CPU 性能每 18 個(gè)月提高一倍,或價(jià)格下降一半;

3. 同樣錢買到的計(jì)算機(jī)性能,每 18 個(gè)月翻一番。

根據(jù)臺(tái)積電的數(shù)據(jù),摩爾定律指導(dǎo)整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)的時(shí)間遠(yuǎn)遠(yuǎn)超越戈登·摩爾劃定的壽命,如今一個(gè) IC 設(shè)備可以容納多達(dá) 1000 億個(gè)晶體管——這已經(jīng)是極限了,即便是在蘋果 A16 小小的芯片上也能放下 160 億個(gè)晶體管。

但正如英偉達(dá) CEO 黃仁勛最近的提醒——「摩爾定律已經(jīng)死了,」逼近物理極限的制程工藝則是最后也最關(guān)鍵一堵墻。當(dāng)硅基芯片突破 1nm 之后,量子隧穿效應(yīng)將使得「電子失控」,芯片失效。事實(shí)上,量子隧穿效應(yīng) 5nm 甚至 7nm 以下就已經(jīng)存在。

與此同時(shí),量產(chǎn)先進(jìn)制程芯片的成本越來(lái)越高。3nm 芯片的設(shè)計(jì)動(dòng)輒就要 15 億美元,到了 2nm,臺(tái)積電僅產(chǎn)能布局就計(jì)劃投入 1 萬(wàn)億新臺(tái)幣(約 2290 億人民幣),超過(guò)華為 2021 年整體收入三分之一。

「臺(tái)積電可能會(huì)失敗。隨著移動(dòng)到下一個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)變得更加困難,任何人都可能跌倒,」英國(guó)《金融時(shí)報(bào)》引述經(jīng)濟(jì)歷史學(xué)家克里斯·米勒的看法稱,「或者,如果未來(lái)幾個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的過(guò)渡比我們預(yù)期的更為艱難,臺(tái)積電的優(yōu)勢(shì)可能會(huì)變得不那么有意義?!?/p>

對(duì)后進(jìn)者來(lái)說(shuō),這是趕超臺(tái)積電——也是全球頂級(jí)水平最好的機(jī)會(huì),至于整個(gè)行業(yè)的問(wèn)題,畢竟天塌了還有個(gè)高的頂著,這大概也是強(qiáng)者的煩惱吧。



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