12月8日,半導體產(chǎn)業(yè)分析師 Dylan Patel發(fā)布了一條推特稱意法半導體未來將進軍10nm工藝,不過考慮到提到的晶圓廠直到2026年才能滿負荷生產(chǎn)18nm工藝,實現(xiàn)10nm工藝的具體時間可能較晚。
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圖源:推特
據(jù)Dylan Patel在推文中介紹,意法半導體將每月生產(chǎn)5萬片晶圓18nm FD-SOI,后續(xù)將轉向下一個節(jié)點,采用10nm工藝,該意法半導體晶圓廠將與GlobalFoundries合作生產(chǎn)。
早在今年7月,意法半導體曾與格芯宣布投資57億歐元(約418.38億元人民幣),在法國建造一座新的半導體廠。新廠位于意法半導體法國克羅爾(Crolles)現(xiàn)有的12英寸300mm 晶圓廠附近,將雇用1000名員工,并將得到法國政府大量的財務支持。該工廠目標是到2026年滿載生產(chǎn),屆時年產(chǎn)能將達62萬片300mm晶圓。今年10月,意法半導體又官宣其又一大擴產(chǎn)計劃,將在意大利卡塔尼亞(Catania)投資7.3億歐元建造一條6英寸碳化硅襯底生產(chǎn)線,預計于2023年投產(chǎn)。
從目前布局看,在傳統(tǒng)產(chǎn)品線之外,先進制程與寬禁帶材料是意法半導體未來兩大投入重點。在先進制程方面,意法半導體重啟了向1X納米工藝節(jié)點的進軍,明確選擇了FD-SOI技術路線為突破重點。
全球半導體產(chǎn)業(yè)布局上,意法半導體及其戰(zhàn)略布局對國內(nèi)產(chǎn)業(yè)發(fā)展頗具借鑒意義,為中國產(chǎn)業(yè)界帶來了有力的鼓舞。對于國內(nèi)而言,先進制程邏輯芯片制造面臨著更為嚴峻的外部遏制壓力,大陸產(chǎn)學研機構也有不少正在FD-SOI技術路線上默默耕耘,這條能夠繞開EUV的“小路”,有必要得到更多企業(yè)更大力度的“平整”和“拓寬”。
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