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ASML今年下定了幾個決心

2022-11-28
來源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫
關(guān)鍵詞: ASML 半導(dǎo)體 EUV光刻機

作為唯一一家控制著控制著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生命線的“EUV光刻機”的制造商,ASML對行業(yè)趨勢的洞察力無疑超過了其他公司。在日前召開的投資者大會上,ASML對未來十年半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的走勢進行了透徹的分析和預(yù)測。從整個半導(dǎo)體行業(yè)的總價值來看,ASML直接引用了SEMI、TechInsights和麥肯錫三家分析公司的數(shù)據(jù),其2030市場規(guī)模在1萬億到1.3萬億美元之間。目前的總價值約為6000億美元,所以從目前的預(yù)測來看,無論如何,半導(dǎo)體市場的規(guī)模在十年內(nèi)還會再翻一番。

在經(jīng)歷了去年供應(yīng)鏈的緊張局勢后,各國很快意識到所謂的全球供應(yīng)鏈在疫情這樣的全球性危機中并不可靠,于是開始追求所謂的“技術(shù)主權(quán)”。如果不能把它牢牢地握在手里,必然會被別人一步一步地控制,而這對于ASML無疑是好事。

今年的ASML,下定了幾個決心。

01

擺明態(tài)度決絕加碼:尊重市場事實

今年美國再次升級出口管理,想要中國14nm及以下的芯片制造設(shè)備。美媒傳出消息,稱正在向荷蘭方面施壓,要求ASML停止向中國芯片企業(yè)出售用于成熟芯片制程的DUV等主流需求光刻機。不過,這次ASML反應(yīng)不一樣了,直接表示了拒絕態(tài)度。

全球客戶交流會上,ASML對外宣布,計劃把EUV光刻機的年產(chǎn)能擴大到90臺,把DUV光刻機的年產(chǎn)能擴大到600臺,預(yù)計在2025年或者2026年之前實現(xiàn)這一目標。

ASML這項光刻機數(shù)據(jù)剛一出爐,瞬間就引起了全球芯片市場的“躁動”。ASML聲稱,限制DUV出貨將造成全球供應(yīng)鏈中斷,還表示自己是一家歐洲的公司。在外界看來,ASML此舉相當于是向老美攤牌了,頂著壓力、不顧“禁令”,也堅決要向中國市場出貨光刻機。

首先是中國的國產(chǎn)替代逐漸成長,ASML擔心自己的市場被搶。在后道光刻機產(chǎn)品中,上海微電子的光刻機產(chǎn)品,在國內(nèi)的市場占有率達到了80%,全球也擁有接近40%的市場。

中國芯片制造企業(yè)以現(xiàn)有的DUV光刻機將芯片制造工藝推進至7nm,國內(nèi)的芯片封裝企業(yè)通富微電等又研發(fā)了5nm芯粒封裝技術(shù),如此國產(chǎn)芯片可望提供接近5nm工藝性能的芯片,對ASML的EUV光刻機需求迫切性下降。

ASML硬氣的另一個原因是,DUV光刻機對美國技術(shù)依賴較低。DUV光刻機使用的是深紫外光源,而全球能夠提供深紫外光源技術(shù)的供應(yīng)商有三家,分別是美國Cymer、日本Gigaphoton和中國的科益虹源。

也就是說,DUV光刻機可以完全擺脫美國技術(shù),ASML想賣,美國也阻止不了。

ASML背后的荷蘭正面反擊

據(jù)《彭博》近日報道,荷蘭外貿(mào)部長Liesje Schreinemacher重申,荷蘭將捍衛(wèi)其經(jīng)濟利益,荷蘭就 ASML 向中國銷售芯片設(shè)備,將在與美國和其他盟國貿(mào)易談判中做出自己的決定。

美國上月宣布史上最全面芯片禁令, 為防破口,美國還積極爭取日本及歐洲等盟友,一同采行限制中國取得先進芯片制造工具的措施。

ASML及荷蘭政府一直是美國游說、拉攏的重點對象,荷蘭知名半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈關(guān)鍵大廠 ASML ,是全球唯一一家能供應(yīng) 7納米米及以下芯片所需的 EUV 曝光機的廠商,幫助半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者獲致成功的關(guān)鍵。

Liesje Schreinemacher周二對荷蘭國會議員表示:重要的是荷蘭將捍衛(wèi)自身利益,捍衛(wèi)國家安全,也要捍衛(wèi)經(jīng)濟利益。Liesje Schreinemacher稱,如果我們把它放在歐盟架構(gòu)里來跟美國談,最后結(jié)果是我們把 EUV 設(shè)備送給美國,我們的境況會更糟糕。

Liesje Schreinemacher上周就曾表示,荷蘭將不會對美國的芯片禁令照單全收,會在和美國、日本等盟國磋商后做出自己的評估。ASML 先前聲明提到,若按照美國的說法去做,全球半導(dǎo)體供應(yīng)會被中斷。

市場分析,從Liesje Schreinemacher的態(tài)度來看,美方在說服盟國的道路上恐怕不會太順遂,短期內(nèi)恐怕難以達成共識。

02

獨一份的自信:逆風(fēng)擴建

目前已經(jīng)有多家美企傳出了芯片庫存嚴重的消息,雖然臺積電10月份營收創(chuàng)造了歷史新高,但也不得不承認產(chǎn)能下滑的事實,據(jù)悉目前7nm產(chǎn)能的利用率已經(jīng)跌破了50%,位于高雄的7nm工廠已經(jīng)接入了28nm工藝,說明市場緊缺的一直都是成熟工藝產(chǎn)能。

各大芯片廠商都停止了工廠的擴建,自然也直接影響到了光刻機的出貨量,但ASML并沒有隨波逐流,選擇縮減開支卻解決問題,反倒加大了產(chǎn)能的擴充,ASML在投資者日會上,再次明確宣布了光刻機產(chǎn)能提升計劃,預(yù)計在2025-2026年實現(xiàn)年出貨60臺EUV和600臺DUV,尤其是DUV的力度更大些。

美國

5月31日,美國商務(wù)部官網(wǎng)顯示,美國商務(wù)部副部長Don Graves與荷蘭半導(dǎo)體公司ASML(ASML)首席執(zhí)行官兼總裁 Peter Wennink共同宣布ASML將斥資 2 億美元擴建其位于康涅狄格州威爾頓的工廠。

據(jù)報道,美商務(wù)部副部長Don Graves與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML首席執(zhí)行官兼總裁Peter Wennink一起在ASML的總部宣布,ASML將斥資2億美元擴建其位于康涅狄格州威爾頓的工廠。這一宣布正值兩黨創(chuàng)新法案在國會最終通過之際,該法案將投資520億美元用于美國半導(dǎo)體的研究、開發(fā)和生產(chǎn)。

韓國

據(jù)韓國《每日經(jīng)濟》11月15日報道,荷蘭ASML首席執(zhí)行官彼得維尼克15日在首爾舉行記者招待會表示,ASML將投資超過2400億韓元,在京畿道華城市打造半導(dǎo)體集群。該項目占地 1.6萬平方米,包括光刻機等設(shè)備的再制造中心、培訓(xùn)與研發(fā)中心、教育及體驗中心等,計劃于16日舉行開工儀式,2024 年全部建成。

維尼克稱,ASML的目標是加強與三星電子、SK海力士等韓企的合作,構(gòu)建半導(dǎo)體綜合生態(tài)體系。計劃將韓國產(chǎn)零部件比重從原來的10%提升至50%,預(yù)計10年內(nèi)將新增就業(yè)1400人。

維尼克當天還指出,由于經(jīng)濟蕭條,短期內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)并不容易,但從長遠來看,將持續(xù)保持增長,預(yù)計今后10年間年均增長率將達9%。

關(guān)于新一代半導(dǎo)體設(shè)備Hi-NA EUV光刻機將于2024年首次出貨事宜,維尼克表示,預(yù)計價格將在3-3.5億歐元之間。

中國臺灣

據(jù)臺媒11月16日消息,荷蘭光刻機巨頭ASML已決定加碼投資中國臺灣地區(qū),規(guī)劃在新北市林口工一產(chǎn)業(yè)園區(qū)內(nèi)新建廠區(qū),擴大產(chǎn)能,一期投資將達到300億新臺幣(約合人民幣68.7億元)。

中國臺灣“中央社”稱,上述消息為臺當局新北市行政長官侯友宜16晚在直播節(jié)目中所透露。當時,侯友宜稱新北市政府早與ASML有過接觸,樂見落腳林口工一工業(yè)區(qū),其中ASML一期應(yīng)該會投資新臺幣300億元(人民幣68.7億左右),另外約有2000名員工進駐。

對此,新北市經(jīng)濟發(fā)展局長何怡明接受臺媒采訪時對該消息予以證實。按照何怡明的說法,ASML起初要在桃園市華亞科技園區(qū)的研發(fā)中心旁土地擴廠,但新北市政府認為這是相當重要的投資招商項目,于是于今年5月同ASML進行了接觸,積極游說與強勢推銷落腳林口,而6至7公頃的土地規(guī)模也超過原來在華亞土地的8倍大。

何怡明表示,ASML一期300億新臺幣投資包括研發(fā)與廠房、設(shè)備等,屆時也會成為新北市很重要的亮眼門面與地標,并期待可以帶動歐洲合作廠商也來林口工一發(fā)展。

根據(jù)ASML在中國臺灣島內(nèi)的官網(wǎng),中國臺灣是ASML在亞洲最大的據(jù)點。該公司深耕島內(nèi)多年,設(shè)有4個客戶支援辦公室,DUV深紫外光與EUV極紫外光訓(xùn)練中心,以及2個生產(chǎn)制造基地。

03

怎么擁有ASML的勇氣

研發(fā)砸錢

ASML 在研發(fā)上花費了超過 60 億歐元,并在近2年的時間里打造了EUV。而且在不斷的研制新技術(shù)。

目前最先進的芯片是4nm制程,雖然三星、臺積電都官宣今年量產(chǎn)3nm芯片,但3nm芯片仍沒有出現(xiàn)。但是,將芯片制程縮小到3nm已經(jīng)很難了,三星采用了更先進的GAA工藝,雖然臺積電仍是采用傳統(tǒng)工藝,結(jié)果成本、性能提升并沒有想象中那么美好。另外,2nm芯片預(yù)計在3年后出現(xiàn),也是2025年,這意味著芯片制程縮小越來越難了。

ASML已經(jīng)官宣了High NA EUV光刻機新消息,稱ASML 正在準備向客戶交付首臺 High-NA EUV 光刻機,大概會在明年某個時間點完成。另外,High NA EUV光刻機可以用于生產(chǎn)制造1nm以上制程的芯片,主要是用于生產(chǎn)制造2nm等芯片,單臺售價可能會超過3億美元。

目標堅定

在其競爭對手中,佳能從未趕上,根據(jù) Tech Monitor的說法,尼康選擇了錯誤的工藝。不僅沒有了老對手,超過 100000 個組件的復(fù)雜性和制造機器的時間使得新進入者很難進入這個市場——客戶已經(jīng)等不及了。而且ASML 是完全垂直整合的——使競爭對手難以獲得關(guān)鍵組件和技術(shù)來制造競爭機器。



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