臺積電在5月中旬舉行的歐洲技術研討會上透露,隨著在德國和日本新建晶圓廠以及在中國臺灣擴大產能,臺積電計劃到2027年將其特種工藝制程產能擴大50%。為實現這一目標,臺積電不僅需要轉換現有產能,還需要為此新建晶圓廠。臺積電同時公布下一個特殊制程節(jié)點:N4e,一種4nm級超低功耗工藝節(jié)點。
臺積電業(yè)務發(fā)展暨海外運營處副總裁張曉強(Kevin Zhang)表示,“過去臺積電總是對即將建成的晶圓廠進行預先審查再決定,但臺積電很長一段時間以來,第一次一開始就決定興建專為將來特殊工藝設計的晶圓廠,以滿足未來需求。未來4~5年,臺積電特殊工藝產能將增長至1.5倍,我們將擴大制造網絡的覆蓋范圍,以提高整個晶圓廠供應鏈的彈性?!?/p>
據悉,臺積電除了用于制造邏輯芯片N5、N3E等眾多節(jié)點,還為功率半導體、混合模擬I/O芯片和超低功耗應用(如物聯網)等應用提供一系列專用節(jié)點,這些工藝通常使用較成熟制程。
臺積電近年來擴張戰(zhàn)略的幾個目標,包括在中國臺灣以外地區(qū)設立新的晶圓廠,以及全面擴大產能,以滿足未來對各種工藝技術的需求。
據了解,截至目前,臺積電最先進的專用節(jié)點是N6e,即N7/N6的變體,支持0.4V、0.9V工作電壓。隨著N4e節(jié)點的推出,臺積電正在研究低于0.4V的電壓。臺積電目前尚未透露關于新節(jié)點的更詳細信息,預計明年將會有更多消息。
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